PERSONAL CLEANSING COMPOSITION FREE OF ALKYL SULFATE OR ALKYL ETHER SULFATE TYPE OF SURFACTANTS

A personal cleansing composition includes a surfactant system, wherein the surfactant system comprises: from 0.1%to 5%of a fatty acyl isethionate surfactant by weight of the composition; from 0.5%to 40%of a co-surfactant by weight of the composition; wherein the composition is free of alkyl sulfate...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SMITH, Edward Dewey, WEI, Karl Shiqing, LU, Ruiqi, LI, Ye, ZHANG, Lesheng
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A personal cleansing composition includes a surfactant system, wherein the surfactant system comprises: from 0.1%to 5%of a fatty acyl isethionate surfactant by weight of the composition; from 0.5%to 40%of a co-surfactant by weight of the composition; wherein the composition is free of alkyl sulfate or alkyl ether sulfate type of surfactants; from 0.05%to 5%of a of a non-ionic surfactant by weight of the composition, wherein the non-ionic surfactant comprises a fatty alkanolamide; from 0.01%to 2.0%of a hydrophobically modified ethoxylated methyl glucoside by weight of the composition; from 0.01%to 1.0%of a preservative by weight of the composition; and wherein the pH is from 5.5 to 7. Composition de nettoyage personnel comprenant un système tensioactif, le système tensioactif comprenant : de 0,1 % à 5 % en poids de la composition d'un tensioactif iséthionate d'acyle gras ; de 0,5 % à 40 % en poids de la composition d'un co-tensioactif ; la composition étant exempte de tensioactifs de type sulfate d'alkyle ou sulfate d'éther d'alkyle ; de 0,05 % à 5 % en poids de la composition d'un tensioactif non ionique, le tensioactif non ionique comprenant un alcanolamide gras ; de 0,01 % à 2,0 % en poids de la composition d'un glucoside de méthyle éthoxylé modifié de manière hydrophobe ; de 0,01 % à 1,0 % en poids de la composition d'un conservateur ; et le pH étant de 5,5 à 7.