METHOD FOR SUPPLYING A LASER OR PLASMA WITH POWER, AND PLASMA OR LASER SYSTEM

Ein Verfahren zur Versorgung eines Lasers oder eines Bearbeitungsplasmas in einer Entladungskammer (30) mit elektrischer Leistung umfasst: a. Bereitstellung von Leistung von einem Ausgangsanschluss (24) eines Balanced Amplifiers (12) an die Entladungskammer (30), wobei der Balanced Amplifier (12) mindestens zwei Verstärkerpfade (14, 16) umfasst, die jeweils ein Signal an einen Koppler (22) liefern, wobei der Koppler (22) einen Ausgangsanschluss (24) und einen Isolationsanschluss (26) aufweist und so konfiguriert ist, dass er die Signale in Abhängigkeit von deren Phasenbeziehung kombiniert und Leistung an den Ausgangsanschluss (24) und/oder den Isolationsanschluss (26) liefert, b. Einstellen einer ersten Phasenbeziehung der Signale für eine vorgegebene Zeit, um eine Zündung des Lasers oder des Plasmas durchzuführen, c. Einstellen einer von der ersten Phasenbeziehung verschiedenen zweiten Phasenbeziehung, um einen Laser zu betreiben oder ein Plasma in der Entladungskammer (30) aufrecht zu erhalten. A method for supplying a laser or a processing plasma in a discharge chamber (30) with electrical power comprises: a. providing power from an output terminal (24) of a balanced amplifier (12) to the discharge chamber (30), wherein the balanced amplifier (12) comprises at least two amplifier paths (14, 16), each of which delivers a signal to a coupler (22), wherein the coupler (22) has an output terminal (24) and an isolation terminal (26) and is configured such that it combines the signals depending on the phase relationship thereof and delivers power to the output terminal (24) and/or the isolation terminal (26), b. setting a first phase relationship of the signals for a predefined time in order to trigger the laser or ignite the plasma, c. setting a second phase relationship, different from the first phase relationship, in order to operate a laser or to maintain a plasma in the discharge chamber (30). Un procédé d'alimentation en énergie électrique d'un laser ou d'un plasma de traitement dans une chambre de décharge (30) consiste à : a. fournir de l'énergie depuis une borne de sortie (24) d'un amplificateur équilibré (12) à la chambre de décharge (30), l'amplificateur équilibré (12) comprenant au moins deux trajets d'amplificateur (14, 16), chacun délivrant un signal à un coupleur (22), le coupleur (22) ayant une borne de sortie (24) et une borne d'isolation (26) et étant configuré de telle sorte qu'il combine les signaux en fonction de la relation de phase de c