DEVICE AND METHOD FOR ALIGNING TWO COMPONENTS

The invention relates to a method for aligning two components (31, 33) of a projection exposure apparatus (1, 101) for semiconductor lithography, comprising the following method steps: - inserting at least one mandrel (30, 50) of a first component (33) into a recess (94) in a second component (31) in the z-direction, - preloading the mandrel (30, 50) perpendicular to the z-direction to a predetermined torque for pre-positioning the two components (31,33) in relation to each other in the x-y plane, - positioning the two components (3, 33) in the z-direction until they are in contact with a contact force FA, - bracing the mandrel (30, 50) with the recess (94) with maximum torque, - positioning the two components in the z-direction until the first component (31) rests on the second component (33) with maximum weight force Fmax. The invention further relates to a device for aligning two components (31, 33) of a projection exposure apparatus (1, 101) for semiconductor lithography, which is characterized in that the device comprises a mandrel (30). The invention further relates to a method for aligning two components (31, 33) of a projection exposure apparatus (1, 101) for semiconductor lithography, wherein the alignment comprising the use of a mandrel (30, 50). L'invention concerne un procédé permettant d'aligner deux composants (31, 33) d'un appareil d'exposition par projection (1, 101) pour la lithographie à semi-conducteurs, celui-ci comprenant les étapes de procédé suivantes : - insérer au moins un mandrin (30, 50) d'un premier composant (33) dans un évidement (94) ménagé dans un second composant (31) dans la direction z, - précharger le mandrin (30, 50) perpendiculairement à la direction z à un couple prédéterminé pour pré-positionner les deux composants (31, 33) l'un par rapport à l'autre dans le plan x-y, - positionner les deux composants (3, 33) dans la direction z jusqu'à ce qu'ils soient en contact avec une force de contact FA, - renforcer le mandrin (30, 50) avec l'évidement (94) avec un couple maximal, -positionner les deux composants dans la direction z jusqu'à ce que le premier composant (31) repose sur le second composant (33) avec une force de poids maximale Fmax. L'invention concerne en outre un dispositif servant à aligner deux composants (31, 33) d'un appareil d'exposition par projection (1, 101) pour la lithographie à semi-conducteurs, celui-ci étant est caractérisé en ce que le dispositif comprend un mandrin (30). L'invention concerne égale