CONNECTION OF COMPONENTS OF AN OPTICAL DEVICE

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Optische Anordnung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einem optischen Element (108.1), insbesondere einem Facettenelement, einer passiven Stützeinrichtung (108.2) und einer Justiereinrichtung (108.3). Das optische Element (108.1) 5 weist eine optische Fläche (108.4) auf. Die Stützeinrichtung (108.2) ist dazu ausgebildet, das optische Element (108.1) an einer Stützstruktur (109) abzustützen, wobei die Stützeinrichtung (108.2) eine Kippgelenkeinrichtung (108.7) umfasst, die dazu ausgebildet ist, wenigstens eine Kippachse (108.8) des optischen Elements (108.1) bezüglich der Stützstruktur (109) zu definieren. Die Justiereinrichtung (108.3) wirkt zumindest 10 abschnittsweise kinematisch parallel zu der Stützeinrichtung (108.2) zwischen dem optischen Element (108.1) und der Stützstruktur (109), wobei die Justiereinrichtung (108.3) wenigstens ein Stellelement (108.9) umfasst, das entlang einer Stellelementlängsachse (108.10) langgestreckt ausgebildet ist. Das Stellelement (108.9) weist ein erstes Ende auf, das von dem optischen Element (108.1) entfernt ist, und ein zweites Ende, das dem 15 optischen Element (108.1) benachbart ist und an das optische Element (108.1) angebunden ist. Das Stellelement (108.9) ist derart angeordnet und ausgebildet, dass eine Verschiebung, die in einem Stellfreiheitsgrad in das erste Ende des Stellelements (108.9) eingebracht wird, eine Verkippung der optischen Fläche (108.4) um die wenigstens eine Kippachse (108.8) des optischen Elements (108.1) verstellt, wobei der Stellfreiheitsgrad ein translatorischer 20 Freiheitsgrad ist, der entlang der Stellelementlängsachse (108.10) verläuft. The present invention relates to an optical arrangement for microlithography, in particular for using light in the extreme UV (EUV) range, having an optical element (108.1), in particular a facet element, a passive support device (108.2) and an adjustment device (108.3). The optical element (108.1) has an optical face (108.4). The support device (108.2) is designed to support the optical element (108.1) on a support structure (109), the support device (108.2) comprising a tilt joint device (108.7), which is designed to define at least one tilt axis (108.8) of the optical element (108.1) in relation to the support structure (109). The adjustment device (108.3) acts, at least in portions, kinematically parallel to the support device (108.2) between th