PIXEL MATRIX SENSOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

The invention relates to a method of preparing a pixel matrix sensor with a backside-illuminated geometry. After depositing (S12) a sensor layer on a second side of the substrate, a substrate spacer is prepared (S14), including removing completely the substrate in the central area from the second side of the substrate to create a gap in a central area above a photoactive region of the sensor layer and leaving the substrate spacer on the second side of the substrate and outside of the central area. An optical filter is then attached (S15) to the substrate spacer. The substrate spacer serves as a mechanical spacer for mounting the optical filter and facilitates maintaining the spatial homogeneity of the width of a gap between the optical filter and the sensor layer, without requiring additional holder structures for mounting the optical filter. L'invention concerne un capteur à matrice de pixels et un procédé de fabrication de celui-ci. L'invention concerne un procédé de préparation d'un capteur à matrice de pixels ayant une géométrie éclairée par l'arrière. Après dépôt (S12) d'une couche de capteur sur un second côté du substrat, un espaceur de substrat est préparé (S14), consistant à retirer complètement le substrat dans la zone centrale du second côté du substrat pour créer un espace dans une zone centrale au-dessus d'une région photoactive de la couche de capteur et à laisser l'espaceur de substrat sur le second côté du substrat et à l'extérieur de la zone centrale. Un filtre optique est ensuite fixé (S15) à l'espaceur de substrat. L'espaceur de substrat sert d'espaceur mécanique pour monter le filtre optique et facilite le maintien de l'homogénéité spatiale de la largeur d'un espace entre le filtre optique et la couche de capteur, sans nécessiter de structures de support supplémentaires pour monter le filtre optique.