CHEMICAL-DOSE SUBSTRATE DEPOSITION MONITORING

Assemblies, system, methods, and devices for monitoring characteristics of a substrate disposed in a recess within a processing chamber. An assembly includes an enclosure structure forming an interior volume configured to support a substrate disposed within the interior volume. The substrate may be selectively removed from the enclosure structure. The enclosure structure may include an upper interior surface and a lower interior surface located below the upper interior surface. The interior volume is configured to direct a first mass transport of a reactive species to a first surface of the substrate, the reactive species corresponding to a substrate process. A first portion of the lower interior surface is configured to support the substrate. A second portion of the lower interior surface forms a channel configured to provide a second mass transport of the reactive species to a second surface of the substrate opposite the first surface. L'invention concerne des ensembles, un système, des procédés et des dispositifs permettant de surveiller des caractéristiques d'un substrat disposé dans un évidement à l'intérieur d'une chambre de traitement. Un ensemble comprend une structure d'enceinte formant un volume intérieur conçu pour supporter un substrat disposé à l'intérieur du volume intérieur. Le substrat peut être sélectivement retiré de la structure d'enceinte. La structure d'enceinte peut comprendre une surface intérieure supérieure et une surface intérieure inférieure située au-dessous de la surface intérieure supérieure. Le volume intérieur est conçu pour diriger un premier transport de masse d'une espèce réactive vers une première surface du substrat, l'espèce réactive correspondant à un processus de substrat. Une première partie de la surface intérieure inférieure est conçue pour supporter le substrat. Une seconde partie de la surface intérieure inférieure forme un canal conçu pour fournir un second transport de masse de l'espèce réactive vers une seconde surface du substrat opposée à la première surface.