DENSE VERTICALLY SEGMENTED SILICON COATING FOR LOW DEFECTIVITY IN HIGH-TEMPERATURE RAPID THERMAL PROCESSING

This application generally relates to a chamber component for a thermal processing chamber comprising a base component having a coating disposed thereon, the coating having a base component having a coating disposed thereon, the coating includes a surface, a thickness, and a plurality of cracks extending from the surface of the coating through at least 40 percent of the thickness of the coating. La présente demande se rapporte d'une manière générale à un composant de chambre destiné à une chambre de traitement thermique comprenant un composant de base sur lequel se trouve un revêtement, le revêtement présentant un composant de base sur lequel se trouve un revêtement, le revêtement comportant une surface, une épaisseur et une pluralité de fissures s'étendant de la surface du revêtement à travers au moins 40 pour cent de l'épaisseur du revêtement.