ULTRA LOW LOSS SILICON NITRIDE BASED WAVEGUIDE
A method of making a waveguide includes providing a first portion of a cladding located over a substrate, forming a silicon nitride core over the first portion of the cladding using a deuterated silane source in a low-pressure chemical vapor deposition process, and forming a second portion of the cl...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A method of making a waveguide includes providing a first portion of a cladding located over a substrate, forming a silicon nitride core over the first portion of the cladding using a deuterated silane source in a low-pressure chemical vapor deposition process, and forming a second portion of the cladding over the silicon nitride core.
Un procédé de fabrication d'un guide d'ondes comprend la fourniture d'une première partie d'une gaine située sur un substrat, la formation d'un noyau de nitrure de silicium sur la première partie de la gaine à l'aide d'une source de silane deutérée dans un processus de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression, et la formation d'une seconde partie de la gaine sur le noyau de nitrure de silicium. |
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