MULTI-BEAM PARTICLE MICROSCOPE FOR REDUCING PARTICLE BEAM-INDUCED TRACES ON A SAMPLE
The invention relates to a multi-beam particle microscope for reducing particle beam-induced traces on a sample at which a high voltage is present. The occurrence of additional residual gas in the sample chamber is reduced by the use of a specific objective lens cable and/or a specific sample stage...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | The invention relates to a multi-beam particle microscope for reducing particle beam-induced traces on a sample at which a high voltage is present. The occurrence of additional residual gas in the sample chamber is reduced by the use of a specific objective lens cable and/or a specific sample stage cable, which are specifically shielded.
L'invention concerne un microscope à particules à faisceaux multiples permettent de réduire les traces induites par un faisceau de particules sur un échantillon auquel est appliquée une haute tension. L'apparition d'un gaz résiduel supplémentaire dans la chambre d'échantillon est réduite par l'utilisation d'un câble de lentille d'objectif spécifique et/ou d'un câble d'étage d'échantillon spécifique, qui sont spécifiquement blindés. |
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