PLASMA TREATMENT DEVICE

In the present invention, during an interlock mechanism operation of a plasma treatment device, an electronic device mounted in the plasma treatment device is protected. This plasma treatment device comprises: a plasma treatment chamber; a base that is disposed inside the plasma treatment chamber and has a heat transfer medium flow path and a space; an electrostatic chuck disposed on the base; a first heater element disposed inside the electrostatic chuck; a second heater element disposed inside the space; a control circuit board that includes at least one control element electrically connected to at least one of the first heater element and the second heater element, and is disposed within the space; and a recovery circuit that is electrically connected between the second heater element and the at least one control element, and that is configured to supply power to the second heater element on the basis of the temperature inside the space. Dans la présente invention, pendant une opération du mécanisme de verrouillage d'un dispositif de traitement au plasma, un dispositif électronique monté dans le dispositif de traitement au plasma est protégé. Ce dispositif de traitement au plasma comprend une chambre de traitement au plasma ; une base disposée à l'intérieur de la chambre de traitement au plasma et comprenant une voie d'écoulement de fluide caloporteur et un espace ; un mandrin électrostatique disposé sur la base ; un premier élément chauffant disposé à l'intérieur du mandrin électrostatique ; un second élément chauffant disposé à l'intérieur de l'espace ; une carte de circuit de commande qui comprend au moins un élément de commande connecté électriquement au premier élément chauffant et/ou au second élément chauffant, et qui est disposée dans l'espace ; et un circuit de récupération qui est connecté électriquement entre le second élément chauffant et le ou les éléments de commande, et qui est conçu pour alimenter le second élément chauffant sur la base de la température à l'intérieur de l'espace. プラズマ処理装置のインターロック機構動作時において、プラズマ処理装置に搭載される電子デバイスを保護する。 プラズマ処理チャンバと、プラズマ処理チャンバ内に配置され、伝熱媒体流路及び空間を有する基台と、基台上に配置される静電チャックと、静電チャック内に配置される第１のヒータ素子と、空間内に配置される第２のヒータ素子と、第１のヒータ素子及び第２のヒータ素子のうち少なくともいずれかに電気的に接続される少なくとも１つの制御素子を含み、空間内に配置される制御回路基板と、第２のヒータ素子と少なくとも１つの制御素子との間に電気的に接続され、空間内の温度に基づき第２のヒータ素子に電力を供給するように構成されるリカバリ回路と、を備える、プラズマ処理装置。