SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT
A semiconductor laser element (1) comprises: a substrate (10); and a semiconductor laminate structure (20) which is formed on one surface of the substrate (10) and in which a plurality of semiconductor layers are laminated. The semiconductor laminate structure (20) has an optical waveguide extending...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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creator | NAKATSU, Koji OKAWAUCHI, Yoshihiko |
description | A semiconductor laser element (1) comprises: a substrate (10); and a semiconductor laminate structure (20) which is formed on one surface of the substrate (10) and in which a plurality of semiconductor layers are laminated. The semiconductor laminate structure (20) has an optical waveguide extending along the resonator-length direction of the semiconductor laser element (1). On the other surface of the substrate (10), a pair of first grooves (51) are formed extending along the resonator-length direction so as to cut out portions of a pair of side surfaces of the semiconductor laser element (1). Both end parts, of the pair of first grooves (51) in the resonator-length direction, are located at positions retreated from each of end surfaces of the semiconductor laminate structure (20). In the semiconductor laminate structure (20), second grooves (52) are formed from the end surface of the semiconductor laminate structure (20) along the resonator-length direction. The second grooves (52) are, in a top view, formed on both sides of the optical waveguide and are formed between the optical waveguide and the first grooves (51).
La présente invention concerne un élément laser à semi-conducteurs (1) qui comprend : un substrat (10); et une structure stratifiée semi-conductrice (20) qui est formée sur une surface du substrat (10) et dans laquelle une pluralité de couches semi-conductrices sont stratifiées. La structure stratifiée semi-conductrice (20) comprend un guide d'ondes optique qui s'étend le long de la direction de la longueur du résonateur de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Sur l'autre surface du substrat (10), une paire de premières rainures (51) sont formées le long de la direction de la longueur du résonateur de manière à découper des parties d'une paire de surfaces latérales de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Les deux parties d'extrémité de la paire de premières rainures (51) dans la direction de la longueur du résonateur sont situées à des positions en retrait par rapport aux surfaces d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20). Dans la structure stratifiée semi-conductrice (20), des secondes rainures (52) sont formées à partir de la surface d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20) le long de la direction de la longueur du résonateur. Les secondes rainures (52) sont, en vue du dessus, formées sur les deux côtés du guide d'ondes optique et sont formées entre le guide d'ondes optique et les premières rai |
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La présente invention concerne un élément laser à semi-conducteurs (1) qui comprend : un substrat (10); et une structure stratifiée semi-conductrice (20) qui est formée sur une surface du substrat (10) et dans laquelle une pluralité de couches semi-conductrices sont stratifiées. La structure stratifiée semi-conductrice (20) comprend un guide d'ondes optique qui s'étend le long de la direction de la longueur du résonateur de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Sur l'autre surface du substrat (10), une paire de premières rainures (51) sont formées le long de la direction de la longueur du résonateur de manière à découper des parties d'une paire de surfaces latérales de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Les deux parties d'extrémité de la paire de premières rainures (51) dans la direction de la longueur du résonateur sont situées à des positions en retrait par rapport aux surfaces d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20). Dans la structure stratifiée semi-conductrice (20), des secondes rainures (52) sont formées à partir de la surface d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20) le long de la direction de la longueur du résonateur. Les secondes rainures (52) sont, en vue du dessus, formées sur les deux côtés du guide d'ondes optique et sont formées entre le guide d'ondes optique et les premières rainures (51).
半導体レーザ素子(1)は、基板(10)と、基板(10)の一方の面に形成され、複数の半導体層が積層された半導体積層構造体(20)と、を備え、半導体積層構造体(20)は、半導体レーザ素子(1)の共振器長方向に沿って延在する光導波路を有し、基板(10)の他方の面には、半導体レーザ素子(1)の一対の側面を切り欠くように共振器長方向に沿って延在する一対の第1溝(51)が形成されており、一対の第1溝(51)の各々における共振器長方向における両端部は、半導体積層構造体(20)の端面から後退した位置に存在し、半導体積層構造体(20)には、半導体積層構造体(20)の端面から共振器長方向に沿って第2溝(52)が形成されており、上面視において、第2溝(52)は、光導波路の両側に形成され、且つ、第1溝(51)と光導波路との間に形成されている。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; DEVICES USING STIMULATED EMISSION ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230803&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023145562A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230803&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023145562A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NAKATSU, Koji</creatorcontrib><creatorcontrib>OKAWAUCHI, Yoshihiko</creatorcontrib><title>SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT</title><description>A semiconductor laser element (1) comprises: a substrate (10); and a semiconductor laminate structure (20) which is formed on one surface of the substrate (10) and in which a plurality of semiconductor layers are laminated. The semiconductor laminate structure (20) has an optical waveguide extending along the resonator-length direction of the semiconductor laser element (1). On the other surface of the substrate (10), a pair of first grooves (51) are formed extending along the resonator-length direction so as to cut out portions of a pair of side surfaces of the semiconductor laser element (1). Both end parts, of the pair of first grooves (51) in the resonator-length direction, are located at positions retreated from each of end surfaces of the semiconductor laminate structure (20). In the semiconductor laminate structure (20), second grooves (52) are formed from the end surface of the semiconductor laminate structure (20) along the resonator-length direction. The second grooves (52) are, in a top view, formed on both sides of the optical waveguide and are formed between the optical waveguide and the first grooves (51).
La présente invention concerne un élément laser à semi-conducteurs (1) qui comprend : un substrat (10); et une structure stratifiée semi-conductrice (20) qui est formée sur une surface du substrat (10) et dans laquelle une pluralité de couches semi-conductrices sont stratifiées. La structure stratifiée semi-conductrice (20) comprend un guide d'ondes optique qui s'étend le long de la direction de la longueur du résonateur de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Sur l'autre surface du substrat (10), une paire de premières rainures (51) sont formées le long de la direction de la longueur du résonateur de manière à découper des parties d'une paire de surfaces latérales de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Les deux parties d'extrémité de la paire de premières rainures (51) dans la direction de la longueur du résonateur sont situées à des positions en retrait par rapport aux surfaces d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20). Dans la structure stratifiée semi-conductrice (20), des secondes rainures (52) sont formées à partir de la surface d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20) le long de la direction de la longueur du résonateur. Les secondes rainures (52) sont, en vue du dessus, formées sur les deux côtés du guide d'ondes optique et sont formées entre le guide d'ondes optique et les premières rainures (51).
半導体レーザ素子(1)は、基板(10)と、基板(10)の一方の面に形成され、複数の半導体層が積層された半導体積層構造体(20)と、を備え、半導体積層構造体(20)は、半導体レーザ素子(1)の共振器長方向に沿って延在する光導波路を有し、基板(10)の他方の面には、半導体レーザ素子(1)の一対の側面を切り欠くように共振器長方向に沿って延在する一対の第1溝(51)が形成されており、一対の第1溝(51)の各々における共振器長方向における両端部は、半導体積層構造体(20)の端面から後退した位置に存在し、半導体積層構造体(20)には、半導体積層構造体(20)の端面から共振器長方向に沿って第2溝(52)が形成されており、上面視において、第2溝(52)は、光導波路の両側に形成され、且つ、第1溝(51)と光導波路との間に形成されている。</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>DEVICES USING STIMULATED EMISSION</subject><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAgIdvX1dPb3cwl1DvEPUvBxDHYNUnD1cfV19QtRcPRzUfB1DfHwd1FwA0oGBPkDlXn6uSvg0cTDwJqWmFOcyguluRmU3VxDnD10Uwvy41OLCxKTU_NSS-LD_Y0MjIwNTUxNzYwcDY2JUwUAStMwKQ</recordid><startdate>20230803</startdate><enddate>20230803</enddate><creator>NAKATSU, Koji</creator><creator>OKAWAUCHI, Yoshihiko</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230803</creationdate><title>SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT</title><author>NAKATSU, Koji ; OKAWAUCHI, Yoshihiko</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023145562A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2023</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>DEVICES USING STIMULATED EMISSION</topic><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NAKATSU, Koji</creatorcontrib><creatorcontrib>OKAWAUCHI, Yoshihiko</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NAKATSU, Koji</au><au>OKAWAUCHI, Yoshihiko</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT</title><date>2023-08-03</date><risdate>2023</risdate><abstract>A semiconductor laser element (1) comprises: a substrate (10); and a semiconductor laminate structure (20) which is formed on one surface of the substrate (10) and in which a plurality of semiconductor layers are laminated. The semiconductor laminate structure (20) has an optical waveguide extending along the resonator-length direction of the semiconductor laser element (1). On the other surface of the substrate (10), a pair of first grooves (51) are formed extending along the resonator-length direction so as to cut out portions of a pair of side surfaces of the semiconductor laser element (1). Both end parts, of the pair of first grooves (51) in the resonator-length direction, are located at positions retreated from each of end surfaces of the semiconductor laminate structure (20). In the semiconductor laminate structure (20), second grooves (52) are formed from the end surface of the semiconductor laminate structure (20) along the resonator-length direction. The second grooves (52) are, in a top view, formed on both sides of the optical waveguide and are formed between the optical waveguide and the first grooves (51).
La présente invention concerne un élément laser à semi-conducteurs (1) qui comprend : un substrat (10); et une structure stratifiée semi-conductrice (20) qui est formée sur une surface du substrat (10) et dans laquelle une pluralité de couches semi-conductrices sont stratifiées. La structure stratifiée semi-conductrice (20) comprend un guide d'ondes optique qui s'étend le long de la direction de la longueur du résonateur de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Sur l'autre surface du substrat (10), une paire de premières rainures (51) sont formées le long de la direction de la longueur du résonateur de manière à découper des parties d'une paire de surfaces latérales de l'élément laser à semi-conducteurs (1). Les deux parties d'extrémité de la paire de premières rainures (51) dans la direction de la longueur du résonateur sont situées à des positions en retrait par rapport aux surfaces d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20). Dans la structure stratifiée semi-conductrice (20), des secondes rainures (52) sont formées à partir de la surface d'extrémité de la structure stratifiée semi-conductrice (20) le long de la direction de la longueur du résonateur. Les secondes rainures (52) sont, en vue du dessus, formées sur les deux côtés du guide d'ondes optique et sont formées entre le guide d'ondes optique et les premières rainures (51).
半導体レーザ素子(1)は、基板(10)と、基板(10)の一方の面に形成され、複数の半導体層が積層された半導体積層構造体(20)と、を備え、半導体積層構造体(20)は、半導体レーザ素子(1)の共振器長方向に沿って延在する光導波路を有し、基板(10)の他方の面には、半導体レーザ素子(1)の一対の側面を切り欠くように共振器長方向に沿って延在する一対の第1溝(51)が形成されており、一対の第1溝(51)の各々における共振器長方向における両端部は、半導体積層構造体(20)の端面から後退した位置に存在し、半導体積層構造体(20)には、半導体積層構造体(20)の端面から共振器長方向に沿って第2溝(52)が形成されており、上面視において、第2溝(52)は、光導波路の両側に形成され、且つ、第1溝(51)と光導波路との間に形成されている。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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title | SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT |
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