A PELLICLE CLEANING SYSTEM

A cleaning system for cleaning a component related to a lithographic process such as a pellicle, reticle, wafer or another lithographic component, comprising at least one radiation emitter configured to, in use, irradiate a region of the component so as to cause thermomechanical vibrations in the co...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	GRISIN, Ilja, KLEIN, Alexander, TE SLIGTE, Edwin, WOLF, Abraham, VERMEULEN, Paul
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A cleaning system for cleaning a component related to a lithographic process such as a pellicle, reticle, wafer or another lithographic component, comprising at least one radiation emitter configured to, in use, irradiate a region of the component so as to cause thermomechanical vibrations in the component and/or induce sputtering of contaminants present on the component. Un système de nettoyage permettant de nettoyer un composant associé à un processus lithographique, tel qu'une pellicule, un réticule, une tranche ou un autre composant lithographique, le système comprenant au moins un émetteur de rayonnement qui est conçu, lorsqu'il est en marche, pour irradier une région du composant de façon à provoquer des vibrations thermomécaniques dans le composant et/ou à induire la pulvérisation des contaminants présents sur le composant.