ENHANCED DUAL-PASS AND MULTI-PASS PARTICLE DETECTION
A particle detection system may include a light source, a first beam splitter, a particle interrogation zone, a reflecting surface, a second beam splitter, a first photodetector, and a second photodetector. The first beam splitter may be configured to split the source beam into an interrogation beam...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A particle detection system may include a light source, a first beam splitter, a particle interrogation zone, a reflecting surface, a second beam splitter, a first photodetector, and a second photodetector. The first beam splitter may be configured to split the source beam into an interrogation beam and a reference beam. The particle interrogation zone may be disposed in the path of the interrogation beam. The reflecting surface may be configured to reflect the interrogation beam back on itself. The second beam splitter may be configured to: (i) receive the reference beam and side scattered light from one or more particles interacting with the interrogation beam in the particle interrogation zone; and (ii) produce a first component beam and second component beam. The first photodetector may be configured to detect the first component beam. The second photodetector may be configured to detect the second component beam.
Un système de détection de particules peut comprendre une source de lumière, un premier diviseur de faisceau, une zone d'interrogation de particules, une surface réfléchissante, un deuxième diviseur de faisceau, un premier photodétecteur et un deuxième photodétecteur. Le premier diviseur de faisceau peut être conçu pour diviser le faisceau source en un faisceau d'interrogation et un faisceau de référence. La zone d'interrogation de particules peut être située sur le trajet du faisceau d'interrogation. La surface réfléchissante peut être conçue pour réfléchir le faisceau d'interrogation sur lui-même. Le deuxième diviseur de faisceau peut être conçu pour : (i) recevoir le faisceau de référence et la lumière diffusée latérale à partir d'une ou de plusieurs particules interagissant avec le faisceau d'interrogation dans la zone d'interrogation de particules ; et (ii) produire un premier faisceau de composant et un deuxième faisceau de composant. Le premier photodétecteur peut être conçu pour détecter le premier faisceau de composant. Le deuxième photodétecteur peut être conçu pour détecter le deuxième faisceau de composant. |
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