A REACTOR
The present invention relates to a reactor (1) that uses chemical vapor deposition method, in particular, is used for the synthesis of micro and nano-sized materials, growth of nanomaterials, material coating and shaping materials. La présente invention concerne un réacteur (1) qui utilise un procéd...
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| Hauptverfasser: | , , |
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | The present invention relates to a reactor (1) that uses chemical vapor deposition method, in particular, is used for the synthesis of micro and nano-sized materials, growth of nanomaterials, material coating and shaping materials.
La présente invention concerne un réacteur (1) qui utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur, en particulier pour la synthèse de matériaux de taille micrométrique et nanométrique, la croissance de nanomatériaux, le revêtement de matériau et la mise en forme de matériaux. |
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