RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD

Provided is a radiation-sensitive composition comprising a polymer having a structural unit represented by formula (1) and a photodegradable base. In formula (1), R1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or the like. X1 is an alkanediyl group, an oxygen atom, or a sulfur atom. Y1 is a monovalent hydrocarbon group, a monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a halogen atom. R2 is a monovalent organic group. B1 is a single bond or *1−COO−. R3 is a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group. Z1 is a single bond, −O−, −COO−, −OCO−, −OCOO−, −CONR4−, −NR4CO−, −OCONR4-, −NR4COO−, or −NR4CONR5−. R4 and R5 are hydrogen atoms or monovalent hydrocarbon groups. L'invention concerne une composition sensible aux rayonnements comprenant un polymère ayant un motif constitutif représenté par la formule (1) et une base photodégradable. Dans la formule (1), R1 représente un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle, ou similaire. X1 représente un groupe alcanediyle, un atome d'oxygène ou un atome de soufre. Y1 représente un groupe hydrocarboné monovalent, un groupe hydrocarboné fluoré monovalent ou un atome d'halogène. R2 représente un groupe organique monovalent. B1 représente une liaison simple ou *1−COO−. R3 représente un groupe hydrocarboné divalent substitué ou non substitué. Z1 représente une liaison simple, −O−, −COO−, −OCO−, −OCOO−, −CONR4−, −NR4CO−, −OCONR4-, −NR4COO− ou −NR4CONR5−. R4 et R5 représentent des atomes d'hydrogène ou des groupes hydrocarbonés monovalents. 式（１）で表される構造単位を有する重合体と光崩壊性塩基とを含有する感放射線性組成物とする。式（１）中、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、メチル基等である。Ｘ１はアルカンジイル基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｙ１は１価の炭化水素基、１価のフッ素化炭化水素基又はハロゲン原子である。Ｒ２は１価の有機基である。Ｂ１は単結合又は＊１－ＣＯＯ－である。Ｒ３は置換又は無置換の２価の炭化水素基である。Ｚ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ４－、－ＮＲ４ＣＯ－、－ＯＣＯＮＲ４－、－ＮＲ４ＣＯＯ－又は－ＮＲ４ＣＯＮＲ５－である。Ｒ４及びＲ５は水素原子又は１価の炭化水素基である。