COATING APPARATUS AND COATING METHOD

Provided is a coating apparatus with which it is possible to suppress formation of unevenness in coating and form a coating film having a uniform thickness even in the case when foreign matter is present between a stage and a substrate. Specifically, the coating apparatus comprises: a stage on which a substrate is to be placed; and a coating unit which forms a coating film on the substrate being placed on the surface of the stage, by discharging a coating liquid onto the substrate while moving in one direction relative to the substrate. The stage has: an exclusion area holding part which suctions and holds an exclusion area that is other than a coating area of the substrate where a coating film is to be formed; and a coating area holding part which suctions and holds the coating area. The exclusion area holding part is provided so as to enclose the coating area, and is so formed as to be capable of holding the substrate on the stage in a state where the coating area holding part is disabled. L'invention concerne un appareil de revêtement grâce auquel il est possible de supprimer la formation d'irrégularités dans le revêtement et de former un film de revêtement ayant une épaisseur uniforme, même dans le cas où une matière étrangère est présente entre une platine et un substrat. L'appareil de revêtement comprend spécifiquement : une platine sur laquelle un substrat doit être placé; et une unité de revêtement qui forme un film de revêtement sur le substrat qui est placé sur la surface de la platine, par décharge d'un liquide de revêtement sur le substrat tout en se déplaçant dans une direction par rapport au substrat. La platine comprend : une partie de maintien de zone d'exclusion qui aspire et maintient une zone d'exclusion qui est autre qu'une zone de revêtement du substrat où un film de revêtement doit être formé; et une partie de maintien de zone de revêtement qui aspire et maintient la zone de revêtement. La partie de maintien de zone d'exclusion est disposée de façon à enfermer la zone de revêtement, et formée de façon à pouvoir maintenir le substrat sur la platine dans un état dans lequel la partie de maintien de zone de revêtement est désactivée. ステージと基板との間に異物が存在している場合であっても、塗布ムラが形成されるのを抑え、均一厚さの塗布膜を形成することができる塗布装置を提供する。具体的には、基板を載置するステージと、ステージの表面に載置された基板に対し相対的に一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を備える塗布装置であって、ステージは、塗布膜が形成される基板の塗布領域以外の除外領域を吸引して保持する除外領域保持部と、塗布領域を吸引して保持する塗布領域保持部と、を有しており、除外領域保持部は、塗布領域を囲うように設けられ、塗布領域保持部を解除した状態で基板をステージ上に保持可能に形成されている構成とする