SUBSTRATE COMPRISING A TARGET ARRANGEMENT, ASSOCIATED PATTERNING DEVICE AND METROLOGY METHOD

Disclosed is a method of measuring a focus parameter from a focus target, and associated substrate and associated patterning device. The focus target comprises at least a first sub-target and a second sub- target, each having at least a periodic main feature, wherein a respective pitch and/or dimens...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CRAMER, Hugo, GARCIA GRANDA, Miguel, VAN DER SCHAAR, Maurits, VAN DEN BOS, Karel, OP T ROOT, Wilhelmus
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed is a method of measuring a focus parameter from a focus target, and associated substrate and associated patterning device. The focus target comprises at least a first sub-target and a second sub- target, each having at least a periodic main feature, wherein a respective pitch and/or dimensional parameter of at least some sub-elements of the main feature are configured such that said first sub-target and second sub-target have a respective different best focus value; and wherein each said main feature is formed with a focus dependent center-of-mass and/or pitch. The method comprises obtaining a first measurement signal from said first sub-target and a second measurement signal from said second sub- target; determining a difference signal of said first measurement signal and second measurement signal; and determining said focus parameter from said difference signal. Sont divulgués un procédé de mesure d'un paramètre de mise au point à partir d'une cible de mise au point, et un substrat associé et un dispositif de formation de motifs associé. La cible de mise au point comprend au moins une première sous-cible et une seconde sous-cible, ayant chacune au moins une caractéristique principale périodique, un pas et/ou un paramètre dimensionnel respectif d'au moins certains sous-éléments de la caractéristique principale étant configurés de telle sorte que ladite première sous-cible et la seconde sous-cible ont une meilleure valeur de mise au point différente respective ; et chacune desdites caractéristiques principales étant formée avec un centre de masse et/ou un pas dépendant de la mise au point. Le procédé comprend l'obtention d'un premier signal de mesure à partir de ladite première sous-cible et d'un second signal de mesure provenant de ladite seconde sous-cible ; la détermination d'un signal de différence dudit premier signal de mesure et dudit second signal de mesure ; et la détermination dudit paramètre de mise au point à partir dudit signal de différence.