METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING AT LEAST ONE HOLLOW STRUCTURE, MIRROR, EUV LITHOGRAPHY SYSTEM, FLUID SUPPLY DEVICE AND METHOD FOR SUPPLYING A FLUID

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen einer Hohlstruktur (28) in einem Werkstück (25) in Form eines Substrats für einen Spiegel, insbesondere für einen EUV-Spiegel (M4), durch materialabtragende Bearbeitung mittels gepulster Laserstrahlung (35), umfassend: Einstrahlen der gepulsten Laserstrahlung (35) von einer Strahlungseintrittsseite (27) in das Werkstück (25), das aus einem für die gepulste Laserstrahlung (35) transparenten Material gebildet ist, Fokussieren der gepulsten Laserstrahlung (35) in einem Fokusbereich (39), Bilden einer Abtragsfront (46) zum flächigen Abtrag von Material des Werkstücks (25) durch Bewegen des Fokusbereichs (39) entlang eines Bewegungsmusters (41), sowie Erzeugen der Hohlstruktur (28) durch Bewegen der Abtragsfront (46) innerhalb des Werkstücks (25), wobei beim Erzeugen der Hohlstruktur (28) zumindest zeitweise eine Abtragsfront (46) gebildet wird, die nicht senkrecht zu einer Einstrahlungsrichtung (Z) der gepulsten Laserstrahlung (35) auf die Strahlungseintrittsseite (27) des Werkstücks (25) ausgerichtet ist, und wobei die Hohlstruktur in Form eines mit einem Fluid durchströmbaren Kanals erzeugt wird. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Erzeugen eines Kanals (28) in einem Werkstück (25) in Form eines Substrats (25) für einen Spiegel (M4), wobei der Kanal (28) durch materialabtragende Bearbeitung mittels gepulster Laserstrahlung (35) erzeugt wird und beim Erzeugen des Kanals (28) eine Fluidzuführung (50) zumindest teilweise in den Kanal (28) eingeführt wird. Die Erfindung umfasst auch eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens sowie einen Spiegel, insbesondere einen EUV-Spiegel, ein EUV-Lithographiesystem, eine Fluidzuführungsvorrichtung sowie ein Verfahren zum Zuführen eines Fluids. The invention relates to a method for producing a hollow structure (28) in a workpiece (25) in the form of a substrate for a mirror, in particular for an EUV mirror (M4), by material-removing machining by means of pulsed laser radiation (35), the method comprising the steps of: irradiating the pulsed laser radiation (35) from a radiation entry side (27) into the workpiece (25) which is formed from a material transparent to the pulsed laser radiation (35), focussing the pulsed laser radiation (35) in a focus area (39), forming a removal face (46) for the two-dimensional removal of material from the workpiece (25) by moving the focus area (39) along a movement pattern (41), and producing the hollow structure (28) by movin