SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING ELECTROSTATIC CLAMPING OF MULTIPLE PLATENS ON A SPINNING DISK
A system and method for controlling electrostatic clamping of multiple platens on a spinning disk is disclosed. The system comprises a semiconductor processing system, such as a high energy implantation system. The semiconductor processing system produces a spot ion beam, which is directed to a plur...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A system and method for controlling electrostatic clamping of multiple platens on a spinning disk is disclosed. The system comprises a semiconductor processing system, such as a high energy implantation system. The semiconductor processing system produces a spot ion beam, which is directed to a plurality of workpieces, which are disposed on a spinning disk. The spinning disk comprises a rotating central hub with a plurality of platens. The plurality of platens may extend outward from the central hub and workpieces are electrostatically clamped to the platens. The central hub provides the electrostatic clamping voltages to each of the plurality of platens. Further, the plurality of platens may also be capable of rotation about an axis orthogonal to the rotation axis of the central hub. The central hub controls the rotation of each of the platens. Power connections and communications are provided to the central hub via the spindle assembly.
L'invention concerne un système et un procédé de commande de serrage électrostatique de multiples plateaux sur un disque de filage. Le système comprend un système de traitement de semi-conducteur, tel qu'un système d'implantation à haute énergie. Le système de traitement de semi-conducteur produit un faisceau ionique ponctuel dirigé vers une pluralité de pièces à usiner, qui sont disposées sur un disque de filage. Le disque de filage comprend un moyeu central rotatif avec une pluralité de plateaux. La pluralité de plateaux peuvent s'étendre vers l'extérieur à partir du moyeu central et les pièces à usiner sont serrées électrostatiquement sur les plateaux. Le moyeu central fournit les tensions de serrage électrostatiques à chacun des plateaux. En outre, la pluralité de plateaux peuvent également être aptes à tourner autour d'un axe orthogonal à l'axe de rotation du moyeu central. Le moyeu central commande la rotation de chacun des plateaux. Des connexions électriques et des communications sont fournies au moyeu central par l'intermédiaire d'un ensemble broche. |
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