CEILING HEATER, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

The present invention suppresses the deformation of heating elements. A ceiling heater provided above a reaction tube includes a disk-shaped base material and heating elements continuously spread on the base material over a plurality of areas obtained by dividing a circle centered at the center of the base material into sectors, wherein each of the heating elements spread over the plurality of areas is connected to the heating element in the adjacent area at a predetermined portion, the base material has a groove corresponding to the shape of the heating elements, a wall is formed by portions other than the portion where the groove is provided, and the space between the heating elements respectively spread over the two regions adjacent to each other is configured to be wider than the width of the wall separating the two regions. La présente invention supprime la déformation d'éléments chauffants. Un élément chauffant de plafond disposé au-dessus d'un tube de réaction comprend un matériau de base en forme de disque et des éléments chauffants répartis en continu sur le matériau de base sur une pluralité de zones obtenues par division d'un cercle centré au milieu du matériau de base en secteurs, chacun des éléments chauffants répartis sur la pluralité de zones étant relié à l'élément chauffant dans la zone adjacente au niveau d'une partie prédéterminée, le matériau de base présente une rainure correspondant à la forme des éléments chauffants, une paroi est formée par des parties autres que la partie où la rainure est prévue, et l'espace entre les éléments chauffants répartis respectivement sur les deux régions adjacentes l'une à l'autre est conçu pour être plus large que la largeur de la paroi séparant les deux régions. 発熱体の変形を抑制する。 反応管の上方に設けられる天井ヒータであって、円板状の基材と、基材の中央を中心とする円を扇形状に分割した複数の領域に亘って連続して基材上に敷き詰められた発熱体と、を備え、複数の領域内において敷き詰められたそれぞれの発熱体は、隣接する領域の発熱体と、所定の一箇所で接続され、基材は、発熱体の形状に対応する溝を有し、溝が設けられている箇所以外の箇所により壁が形成され、互いに隣接する２つの領域内においてそれぞれ敷き詰められた発熱体の間隔は、当該２つの領域間を隔てている壁の幅よりも広くなるよう構成されている。