WIDE-COVERAGE EDGE RING FOR ENHANCED SHIELDING IN SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

A wide-coverage edge ring configured to be arranged above a bottom ring in a substrate processing chamber includes an upper surface, a lower surface that includes a lower surface step that extends downward from the lower surface and is configured to be received within and interface with a pocket defined at least partially by an upper surface of the bottom ring and an inner surface of a chamber liner, an inner diameter, a ledge defined in the inner diameter of the edge ring, and an outer diameter. The outer diameter of the edge ring includes a projection that extends radially outward from the edge ring and defines an inward step in the outer diameter, the projection and the inward step are configured to interface with an upper end of the chamber liner, and the projection is configured to extend at least partially over the upper end of the chamber liner. La présente invention concerne une bague de bord à large couverture conçue pour être disposée au-dessus d'un anneau inférieur dans une chambre de traitement de substrat qui comprend une surface supérieure, une surface inférieure qui comprend une étape de surface inférieure qui s'étend vers le bas à partir de la surface inférieure et qui est conçue pour être reçue à l'intérieur et à l'interface avec une poche définie au moins partiellement par une surface supérieure de la bague inférieure et une surface interne d'un revêtement de chambre, un diamètre interne, un rebord défini dans le diamètre interne de la bague de bord, et un diamètre externe. Le diamètre externe de la bague de bord comprend une saillie qui s'étend radialement vers l'extérieur à partir de la bague de bord et définit une étape vers l'intérieur dans le diamètre externe, la saillie et l'étape vers l'intérieur étant conçues pour s'interfacer avec une extrémité supérieure du revêtement de chambre, et la saillie étant conçue pour s'étendre au moins partiellement sur l'extrémité supérieure du revêtement de chambre.