LIFT PIN PROTECTION ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

According to an embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus comprises: a chamber in which a process for a substrate is performed; a susceptor which is installed inside the chamber and has the substrate placed thereon; a plurality of lift pins which pass through the susceptor and are capable of supporting the substrate; and a plurality of protection plugs which protrude from the lower surface of the susceptor and respectively surround portions of the lift pins protruding from the lower surface of the susceptor. Selon un mode de réalisation de la présente invention, un appareil de traitement de substrat comprend : une chambre dans laquelle un processus pour un substrat est réalisé ; un suscepteur qui est installé à l'intérieur de la chambre et a le substrat placé sur celui-ci ; une pluralité de broches de levage qui passent à travers le suscepteur et sont aptes à supporter le substrat ; et une pluralité de bouchons de protection qui font saillie à partir de la surface inférieure du suscepteur et entourent respectivement des parties des broches de levage faisant saillie à partir de la surface inférieure du suscepteur. 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 기판에 대한 공정이 진행되는 챔버; 상기 챔버의 내부에 설치되어 상기 기판이 놓여지는 서셉터; 상기 서셉터를 관통하여 상기 기판을 지지가능한 복수의 리프트핀들; 상기 서셉터의 하부면으로부터 돌출되어, 상기 서셉터의 하부면으로부터 돌출된 상기 리프트핀의 일부를 각각 감싸는 복수의 프로텍션 플러그들을 포함한다.