ENHANCED EVANESCENT PRISM COUPLING SYSTEMS AND METHODS FOR CHARACTERIZING STRESS IN CHEMICALLY STRENGTHENED CURVED PARTS

Methods and apparatus for obtaining a corrected digital mode spectrum for a chemically strengthened (CS) substrate having a curved surface are disclosed. The methods include digitally capturing transverse magnetic (TM) and transverse electric (TE) mode spectra of the CS substrate to form a digital m...

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Hauptverfasser: WETMORE, Nathaniel David, ROUSSEV, Rostislav Vatchev
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Methods and apparatus for obtaining a corrected digital mode spectrum for a chemically strengthened (CS) substrate having a curved surface are disclosed. The methods include digitally capturing transverse magnetic (TM) and transverse electric (TE) mode spectra of the CS substrate to form a digital mode spectrum image using an evanescent prism coupling system having a system calibration for measuring flat CS substrates. The method further includes establishing a calibration correction based on the difference in the digitally captured TM and TE mode spectra as compared to a reference TM and TE mode spectra for a reference CS substrate. The calibration correction is applied to the digital mode spectrum image to form the corrected digital mode spectrum image, which can be processed using the system calibration for measuring flat CS substrates to determine a refractive index profile and stress characteristics for the curved CS substrate. Sont divulgués des procédés et un appareil pour obtenir un spectre de mode numérique corrigé pour un substrat chimiquement renforcé (CS) ayant une surface incurvée. Les procédés consistent à capturer numériquement des spectres de mode magnétique transversal (TM) et électrique transversal (TE) du substrat CS pour former une image de spectre de mode numérique à l'aide d'un système de couplage à prisme évanescent ayant un étalonnage de système pour mesurer des substrats CS plats. Le procédé consiste en outre à établir une correction d'étalonnage sur la base de la différence dans les spectres de mode TM et TE capturés numériquement par comparaison avec des spectres de mode TM et TE de référence pour un substrat CS de référence. La correction d'étalonnage est appliquée à l'image de spectre de mode numérique pour former l'image de spectre de mode numérique corrigée, qui peut être traitée à l'aide de l'étalonnage de système pour mesurer des substrats CS plats pour déterminer un profil d'indice de réfraction et des caractéristiques de contrainte pour le substrat CS incurvé.