SYSTEMS AND METHODS FOR QUANTUM COMPUTING USING FLUXONIUM QUBITS WITH KINETIC INDUCTORS
A superconducting device may have a body loop comprising a body loop comprising a Josephson junction structure and a kinetic inductor. The superconducting device can be a qubit in a quantum processor for performing gate-model quantum computation. The superconducting device may be fabricated with a s...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A superconducting device may have a body loop comprising a body loop comprising a Josephson junction structure and a kinetic inductor. The superconducting device can be a qubit in a quantum processor for performing gate-model quantum computation. The superconducting device may be fabricated with a single wiring layer embedded in a single-crystalline substrate trench. The superconducting device may be fabricated with a wiring layer and an insulating layer in a single-crystalline substrate trench. The superconducting device may be fabricated with multiple wiring layers embedded in a single-crystalline substrate trench. The device may be fabricated by defining trenches in the single-crystalline substrate, with the trenches having a depth matching the desired numbers of wiring layers and insulating layers.
Un dispositif supraconducteur peut avoir une boucle de corps comprenant une boucle de corps comprenant une structure de jonction Josephson et une bobine d'induction cinétique. Le dispositif supraconducteur peut être un bit quantique dans un processeur quantique pour effectuer un calcul quantique de modèle de grille. Le dispositif supraconducteur peut être fabriqué avec une seule couche de câblage incorporée dans une tranchée de substrat monocristallin. Le dispositif supraconducteur peut être fabriqué avec une couche de câblage et une couche isolante dans une tranchée de substrat monocristallin. Le dispositif supraconducteur peut être fabriqué avec de multiples couches de câblage incorporées dans une tranchée de substrat monocristallin. Le dispositif peut être fabriqué en définissant des tranchées dans le substrat monocristallin, les tranchées ayant une profondeur correspondant aux nombres souhaités de couches de câblage et de couches isolantes. |
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