PLATFORM FOR CHARGED PARTICLE APPARATUS AND COMPONENTS WITHIN A CHARGED PARTICLE APPARATUS

Disclosed herein is a platform for a charged particle apparatus, the platform comprising: a base frame; a chamber arranged to comprise a substrate; a metrology frame arranged to support a charged particle beam generator for irradiating a substrate in the chamber with a charged particle beam; and a b...

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Hauptverfasser: URBANUS, Willem Henk, HEMPENIUS, Peter, SANS MERCADER, Joan, SARS, Gerardus, GRASMAN, Jasper, BOSCH, Niels, PHILIPS, Patrick, BUTLER, Hans
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator URBANUS, Willem Henk
HEMPENIUS, Peter
SANS MERCADER, Joan
SARS, Gerardus
GRASMAN, Jasper
BOSCH, Niels
PHILIPS, Patrick
BUTLER, Hans
description Disclosed herein is a platform for a charged particle apparatus, the platform comprising: a base frame; a chamber arranged to comprise a substrate; a metrology frame arranged to support a charged particle beam generator for irradiating a substrate in the chamber with a charged particle beam; and a bellow arranged between the metrology frame and the chamber; wherein: the chamber is rigidly connected to the base frame; the bellow comprises a flexible material such that the metrology frame is substantially isolated from any vibrations that are generated in the chamber; and the bellow is air tight so that a substantial vacuum may be established in the chamber. Est divulguée ici une plate-forme pour un appareil à particules chargées, la plate-forme comprenant : un cadre de base ; une chambre agencée pour comprendre un substrat ; un cadre de métrologie agencé pour supporter un générateur de faisceaux de particules chargées pour exposer un substrat dans la chambre à un rayonnement d'un faisceau de particules chargées ; et un soufflet disposé entre le cadre de métrologie et la chambre. La chambre est solidarisée au cadre de base ; le soufflet comprend un matériau flexible de sorte que le cadre de métrologie est sensiblement isolé de toutes les vibrations qui sont générées dans la chambre ; et le soufflet est étanche à l'air de sorte qu'un vide important puisse être établi dans la chambre.
format Patent
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Est divulguée ici une plate-forme pour un appareil à particules chargées, la plate-forme comprenant : un cadre de base ; une chambre agencée pour comprendre un substrat ; un cadre de métrologie agencé pour supporter un générateur de faisceaux de particules chargées pour exposer un substrat dans la chambre à un rayonnement d'un faisceau de particules chargées ; et un soufflet disposé entre le cadre de métrologie et la chambre. La chambre est solidarisée au cadre de base ; le soufflet comprend un matériau flexible de sorte que le cadre de métrologie est sensiblement isolé de toutes les vibrations qui sont générées dans la chambre ; et le soufflet est étanche à l'air de sorte qu'un vide important puisse être établi dans la chambre.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230601&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023094088A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230601&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023094088A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>URBANUS, Willem Henk</creatorcontrib><creatorcontrib>HEMPENIUS, Peter</creatorcontrib><creatorcontrib>SANS MERCADER, Joan</creatorcontrib><creatorcontrib>SARS, Gerardus</creatorcontrib><creatorcontrib>GRASMAN, Jasper</creatorcontrib><creatorcontrib>BOSCH, Niels</creatorcontrib><creatorcontrib>PHILIPS, Patrick</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER, Hans</creatorcontrib><title>PLATFORM FOR CHARGED PARTICLE APPARATUS AND COMPONENTS WITHIN A CHARGED PARTICLE APPARATUS</title><description>Disclosed herein is a platform for a charged particle apparatus, the platform comprising: a base frame; a chamber arranged to comprise a substrate; a metrology frame arranged to support a charged particle beam generator for irradiating a substrate in the chamber with a charged particle beam; and a bellow arranged between the metrology frame and the chamber; wherein: the chamber is rigidly connected to the base frame; the bellow comprises a flexible material such that the metrology frame is substantially isolated from any vibrations that are generated in the chamber; and the bellow is air tight so that a substantial vacuum may be established in the chamber. Est divulguée ici une plate-forme pour un appareil à particules chargées, la plate-forme comprenant : un cadre de base ; une chambre agencée pour comprendre un substrat ; un cadre de métrologie agencé pour supporter un générateur de faisceaux de particules chargées pour exposer un substrat dans la chambre à un rayonnement d'un faisceau de particules chargées ; et un soufflet disposé entre le cadre de métrologie et la chambre. La chambre est solidarisée au cadre de base ; le soufflet comprend un matériau flexible de sorte que le cadre de métrologie est sensiblement isolé de toutes les vibrations qui sont générées dans la chambre ; et le soufflet est étanche à l'air de sorte qu'un vide important puisse être établi dans la chambre.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIgK8HEMcfMP8lUAEgrOHo5B7q4uCgGOQSGezj6uCo4BQKZjSGiwgqOfi4Kzv2-Av5-rX0iwQrhniIenn4IjHi08DKxpiTnFqbxQmptB2c01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSQ-3N_IwMjYwNLEwMLC0dCYOFUAFkUyuA</recordid><startdate>20230601</startdate><enddate>20230601</enddate><creator>URBANUS, Willem Henk</creator><creator>HEMPENIUS, Peter</creator><creator>SANS MERCADER, Joan</creator><creator>SARS, Gerardus</creator><creator>GRASMAN, Jasper</creator><creator>BOSCH, Niels</creator><creator>PHILIPS, Patrick</creator><creator>BUTLER, Hans</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230601</creationdate><title>PLATFORM FOR CHARGED PARTICLE APPARATUS AND COMPONENTS WITHIN A CHARGED PARTICLE APPARATUS</title><author>URBANUS, Willem Henk ; HEMPENIUS, Peter ; SANS MERCADER, Joan ; SARS, Gerardus ; GRASMAN, Jasper ; BOSCH, Niels ; PHILIPS, Patrick ; BUTLER, Hans</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023094088A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2023</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>URBANUS, Willem Henk</creatorcontrib><creatorcontrib>HEMPENIUS, Peter</creatorcontrib><creatorcontrib>SANS MERCADER, Joan</creatorcontrib><creatorcontrib>SARS, Gerardus</creatorcontrib><creatorcontrib>GRASMAN, Jasper</creatorcontrib><creatorcontrib>BOSCH, Niels</creatorcontrib><creatorcontrib>PHILIPS, Patrick</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER, Hans</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>URBANUS, Willem Henk</au><au>HEMPENIUS, Peter</au><au>SANS MERCADER, Joan</au><au>SARS, Gerardus</au><au>GRASMAN, Jasper</au><au>BOSCH, Niels</au><au>PHILIPS, Patrick</au><au>BUTLER, Hans</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PLATFORM FOR CHARGED PARTICLE APPARATUS AND COMPONENTS WITHIN A CHARGED PARTICLE APPARATUS</title><date>2023-06-01</date><risdate>2023</risdate><abstract>Disclosed herein is a platform for a charged particle apparatus, the platform comprising: a base frame; a chamber arranged to comprise a substrate; a metrology frame arranged to support a charged particle beam generator for irradiating a substrate in the chamber with a charged particle beam; and a bellow arranged between the metrology frame and the chamber; wherein: the chamber is rigidly connected to the base frame; the bellow comprises a flexible material such that the metrology frame is substantially isolated from any vibrations that are generated in the chamber; and the bellow is air tight so that a substantial vacuum may be established in the chamber. 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