PRESSURE RELIEF ASSEMBLIES AND METHODS

The present disclosure generally relates to a venting system that includes a lid or base with a center wall that defines a central longitudinal axis, and a total radius that is measured from the longitudinal axis to an outermost surface of the lid or base. The venting system further includes a press...

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Hauptverfasser: DIETRICH, Elizabeth, MEAD, Jeremy, AUERBACH, Brennen, MANE, Vishwatej, SHUKLA, Umang, MCNAMARA, Fiorella
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present disclosure generally relates to a venting system that includes a lid or base with a center wall that defines a central longitudinal axis, and a total radius that is measured from the longitudinal axis to an outermost surface of the lid or base. The venting system further includes a pressure relief feature that is disposed along the lid or base. The pressure relief feature includes at least a first venting feature defining a thinned region of the lid or base, a venting radius is measured from the longitudinal axis to an outermost extent of the first venting feature, and the venting radius is between about 5% and about 25% of the total radius of the lid or base. La présente divulgation concerne d'une manière générale un système de ventilation qui comprend un couvercle ou une base doté d'une paroi centrale qui définit un axe longitudinal central, et un rayon total qui est mesuré depuis l'axe longitudinal jusqu'à une surface la plus à l'extérieur du couvercle ou de la base. Le système de ventilation comprend en outre un élément de décharge de pression qui est disposé le long du couvercle ou de la base. L'élément de décharge de pression comprend au moins un premier élément de ventilation délimitant une région amincie du couvercle ou de la base, un rayon de ventilation est mesuré depuis l'axe longitudinal jusqu'à une étendue la plus à l'extérieur du premier élément de ventilation, et le rayon de ventilation est compris entre environ 5 % et environ 25 % du rayon total du couvercle ou de la base.