COPOLYMER AND HOT MELT COMPOSITIONS COMPRISING SAID COPOLYMER

The present application is directed to a copolymer obtained by free radical polymerization, said copolymer comprising, based on the total weight of monomers: from 0.01 to 10 wt.% of a) at least one co-polymerizable photoinitiator having an ethylenically unsaturated group and a moiety that is decomposable under photo-irradiation to form a radical; from 0.01 to 10 wt.% of b) at least one epoxy (meth)acrylate monomer having at least one (meth)acrylate group and at least one epoxide group; and, from 80 to 99.98 wt.% of c) at least one ethylenically unsaturated monomer which does not bear an epoxide group or a moiety decomposable under photo-irradiation to form a radical. The present application is further directed to a material which is crosslinkable under photoirradiation, said material comprising: a copolymer as defined above; and, at least one ionic photoacid generator (PAG). La présente invention concerne un copolymère obtenu par polymérisation radicalaire, ledit copolymère comprenant, sur la base du poids total des monomères : de 0,01 à 10 % en poids de a) au moins un photoinitiateur co-polymérisable ayant un groupe éthyléniquement insaturé et une fraction qui est décomposable par photo-irradiation pour former un radical ; de 0,01 à 10 % en poids de b) au moins un (méth)acrylate d'époxy ayant au moins un groupe (méth)acrylate et au moins un groupe époxyde ; et, de 80 à 99,98 % en poids de c) au moins un monomère éthyléniquement insaturé qui ne porte pas de groupe époxyde ou une fraction décomposable par photo-irradiation pour former un radical. La présente invention concerne en outre un matériau qui est réticulable sous photo-irradiation, ledit matériau comprenant : un copolymère tel que défini ci-dessus ; et au moins un générateur de photoacide ionique (PAG).