SYSTEMS AND METHODS FOR DEFECT DETECTION AND DEFECT LOCATION IDENTIFICATION IN A CHARGED PARTICLE SYSTEM

Apparatuses, systems, and methods for providing beams for defect detection and defect location identification associated with a sample of charged particle beam systems. In some embodiments, a method may include obtaining an image of a sample; determining defect characteristics from the image; generating an updated image based on the determined defect characteristics and the image; and aligning the updated image with a reference image. L'invention concerne des appareils, des systèmes et des procédés destinés à fournir des faisceaux pour la détection de défauts et l'identification d'emplacements de défaut, associés à un échantillon de systèmes de faisceaux de particules chargées. Dans certains modes de réalisation, un procédé peut consister à obtenir une image d'un échantillon; à déterminer des caractéristiques de défaut à partir de l'image; à générer une image mise à jour en fonction des caractéristiques de défaut déterminées et de l'image; et à aligner l'image mise à jour avec une image de référence.