METHODS AND SYSTEMS TO CALIBRATE RETICLE THERMAL EFFECTS

A method of reducing effects of heating and/or cooling a reticle in a lithographic process includes conditioning the reticle to adjust an initial temperature of the reticle to a predetermined temperature, reducing stress in the reticle to reduce parasitic thermal effects, calibrating a reticle heating model by exposing the reticle and a non-production substrate to a dose of radiation, and processing a production substrate by exposing the reticle and a production substrate to a dose of radiation based on the reticle heating model. The method can increase calibration accuracy and speed of the reticle heating model, reduce conditioning times of the reticle, reduce stress in the reticle, avoid rework of production substrates, and increase throughput, yield, and accuracy. Un procédé de réduction des effets de chauffage et/ou de refroidissement d'un réticule dans un procédé lithographique consiste à conditionner le réticule pour ajuster une température initiale du réticule de façon à ce qu'elle corresponde à une température prédéterminée, à réduire la contrainte dans le réticule pour réduire les effets thermiques parasites, à étalonner un modèle de chauffage de réticule en exposant le réticule ainsi qu'un substrat de non-production à une dose de rayonnement, et à traiter un substrat de production en exposant le réticule ainsi qu'un substrat de production à une dose de rayonnement sur la base du modèle de chauffage de réticule. Le procédé peut augmenter la précision et la vitesse d'étalonnage du modèle de chauffage de réticule, réduire les temps de conditionnement du réticule, réduire la contrainte dans le réticule, éviter la reprise des substrats de production et augmenter le débit, le rendement et la précision.