VALVE MANIFOLD FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING

A valve manifold for use in a semiconductor processing tool comprises a manifold body, a purge gas inlet, a process gas inlet, a manifold outlet, a divert outlet, a first valve interface, a second valve interface, and a third valve interface. The first valve interface and the third valve interface each includes a first port, and a second port. The second valve interface includes a first port, a second port, a third port, and a fourth port. Un collecteur de vanne destiné à être utilisé dans un outil de traitement de semi-conducteur selon la présente invention comprend un corps de collecteur, une entrée de gaz de purge, une entrée de gaz de traitement, une sortie de collecteur, une sortie de dérivation, une première interface de vanne, une deuxième interface de vanne et une troisième interface de vanne. La première interface de vanne et la troisième interface de vanne comprennent chacune un premier orifice et un deuxième orifice. La deuxième interface de vanne comprend un premier orifice, un deuxième orifice, un troisième orifice et un quatrième orifice.