MANIFOLD FOR EQUAL SPLITTING AND COMMON DIVERT ARCHITECTURE

Exemplary substrate processing systems may include a lid plate. The systems may include a gas splitter seated on the lid plate. The gas splitter may include a top surface and side surfaces. The gas splitter may define a first and second gas inlets, with each gas inlet extending through one side surf...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHAKRAVARTHY, Arun Chakravarthy, PRABHAKAR, Vinay K, REZVANTALAB, Hossein, SRICHURNAM, Dharma Ratnam
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Exemplary substrate processing systems may include a lid plate. The systems may include a gas splitter seated on the lid plate. The gas splitter may include a top surface and side surfaces. The gas splitter may define a first and second gas inlets, with each gas inlet extending through one side surface. The gas splitter may define first and second gas outlets extending through the top surface. The gas splitter may define first and second gas lumens that extend between and fluidly couple each gas inlet with corresponding gas outlets. The gas splitter may define mixing channels that include a mixing outlet extending through a side surface and a mixing inlet extending through the top surface. The systems may include output manifolds seated on the lid plate. The systems may include output weldments that fluidly couple each mixing outlet with a respective one of the output manifolds. L'invention concerne des systèmes de traitement de substrat donnés à titre d'exemple qui peuvent comprendre une plaque de couvercle. Les systèmes peuvent comprendre un séparateur de gaz placé sur la plaque de couvercle. Le séparateur de gaz peut comprendre une surface supérieure et des surfaces latérales. Le séparateur de gaz peut comprendre une première et une seconde entrée de gaz, chaque entrée de gaz s'étendant à travers une surface latérale. Le séparateur de gaz peut comprendre des première et seconde sorties de gaz s'étendant à travers la surface supérieure. Le séparateur de gaz peut comprendre une première et une seconde lumière de gaz qui s'étendent entre chaque entrée de gaz et les sorties de gaz correspondantes et les mettent en communication fluidique. Le séparateur de gaz peut comprendre des canaux de mélange qui comprennent une sortie de mélange s'étendant à travers une surface latérale et une entrée de mélange s'étendant à travers la surface supérieure. Les systèmes peuvent comprendre des collecteurs de sortie placés sur la plaque de couvercle. Les systèmes peuvent comprendre des soudures de sortie qui mettent en communication fluidique chaque sortie de mélange et un collecteur respectif parmi les collecteurs de sortie.