RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOUND, AND ACID DIFFUSION CONTROL AGENT

This resist composition includes a resin component (A1) and a photodegradable base (D0) that is represented by general formula (d0) and generates a carboxylic acid with a pka of 0.50 or more as a generated acid. In the formula, Rm is a hydrogen atom or a hydroxy group. X0 is a bromine atom or an iod...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ODASHIMA Rin, KATO Hiroki
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; jpn
Schlagworte:	ADHESIVES APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY DYES ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE MATERIALS THEREFOR METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORIGINALS THEREFOR PAINTS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	This resist composition includes a resin component (A1) and a photodegradable base (D0) that is represented by general formula (d0) and generates a carboxylic acid with a pka of 0.50 or more as a generated acid. In the formula, Rm is a hydrogen atom or a hydroxy group. X0 is a bromine atom or an iodine atom. Yd0 is a divalent linking group or a single bond. Rb1 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group. p01 is an integer of 1-5. Rb2 and Rb3 are each a hydrocarbon group. At least one Rb1 is bonded to an ortho position or a meta position of a benzene ring, and the total number of fluorine atoms included in the -F and/or the -CFRx1Rx2 that is bonded to an aromatic ring bonded to a sulfur atom in the formula is 3 or more. Rx1 and Rx2 are each a fluorine atom or a hydrogen atom. (Chemical formula 1) La présente invention concerne une composition de photorésine qui comprend un constituant de résine (A1) et une base photodégradable (D0) qui est représentée par la formule générale (d0) et génère un acide carboxylique ayant un pka de 0,50 ou plus en tant qu'acide généré. Dans la formule, Rm est un atome d'hydrogène ou un groupe hydroxy. X0 est un atome de brome ou un atome d'iode. Yd0 représente un groupe de liaison divalent ou une liaison simple. Rb1 est un atome de fluor ou un groupe alkyle fluoré. P01 est un nombre entier de 1 à 5. Rb2 et Rb3 représentent chacun un groupe hydrocarboné. Au moins un Rb1 est lié à une position ortho ou à une position méta d'un cycle benzénique et le nombre total d'atomes de fluor inclus dans le - F et/ou le - CFRx1Rx2 qui est lié à un cycle aromatique lié à un atome de soufre dans la formule est supérieur ou égal à 3. Rx1 et Rx2 représentent chacun un atome de fluor ou un atome d'hydrogène. (Formule chimique 1) 樹脂成分（Ａ１）と、ｐｋａが０．５０以上のカルボン酸を発生酸とする、一般式（ｄ０）で表される光崩壊性塩基（Ｄ０）を含有する、レジスト組成物。式中、Ｒｍは、水素原子又はヒドロキシ基である。Ｘ０は、臭素原子又はヨウ素原子である。Ｙｄ０は、２価の連結基又は単結合である。Ｒｂ１は、フッ素原子又はフッ素化アルキル基である。ｐ０１は、１～５の整数である。Ｒｂ２及びＲｂ３は、炭化水素基である。ただし、少なくとも１つのＲｂ１は、ベンゼン環のオルト位又はメタ位に結合し、式中のイオウ原子に結合する芳香環に結合している－Ｆ及び／又は－ＣＦＲｘ１Ｒｘ２に含まれる全フッ素原子の数は、３つ以上である。Ｒｘ１及びＲｘ２は、フッ素原子又は水素原子である。［化１］