LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS

A lithographic apparatus comprises: an illumination system; a support structure; a substrate table; a projection system and a heating system. The illumination system is configured to condition a radiation beam. The support structure is constructed to support a reticle and pellicle assembly for recei...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: DE VRIES, Gosse, BAKKER, Ties, HILDENBRAND, Volker, LUTTIKHUIS, Bernardus, DONDERS, Sjoerd, WOLF, Abraham, ENGEL, Michael, VAN DER HAM, Ronald, KURGANOVA, Evgenia, VERMEULEN, Paul, VAN LIPZIG, Jeroen, JANSSEN, Franciscus
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A lithographic apparatus comprises: an illumination system; a support structure; a substrate table; a projection system and a heating system. The illumination system is configured to condition a radiation beam. The support structure is constructed to support a reticle and pellicle assembly for receipt of the radiation beam conditioned by the illumination system. The substrate table is constructed to support a substrate. The projection system is configured to receive the radiation beam from the reticle - pellicle assembly and to project it onto the substrate. The heating system is operable to heat a pellicle of the reticle - pellicle assembly supported by the support structure. A method for using a reticle - pellicle assembly comprises: illuminating the reticle - pellicle assembly with a radiation beam so as to form a patterned image on a substrate; and heating the pellicle of the reticle - pellicle assembly using a separate heat source. Un appareil lithographique comprend : un système d'éclairage ; une structure de support ; une table de substrat ; un système de projection et un système de chauffage. Le système d'éclairage est conçu pour conditionner un faisceau de rayonnement. La structure de support est conçue pour supporter un ensemble réticule et pellicule pour la réception du faisceau de rayonnement conditionné par le système d'éclairage. La table de substrat est conçue pour supporter un substrat. Le système de projection est conçu pour recevoir le faisceau de rayonnement provenant de l'ensemble réticule et pellicule et pour le projeter sur le substrat. Le système de chauffage peut être utilisé pour chauffer une pellicule de l'ensemble réticule et pellicule supporté par la structure de support. Un procédé d'utilisation d'ensemble réticule et pellicule consiste à : éclairer l'ensemble réticule et pellicule avec un faisceau de rayonnement de façon à former une image à motifs sur un substrat ; et chauffer la pellicule de l'ensemble réticule et pellicule à l'aide d'une source de chaleur indépendante.