DEVELOPMENT DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMATION DEVICE

According to the present invention, the volume resistivity of a contact member that contacts the surface of a developer carrier is no more than 1014 Ω⋅cm, and a developer satisfies the following conditions. Outside of an image formation device, when a potential difference has been formed between the surface of a rotatable rotary member and an abutting member that abuts the surface of the rotary member, the resistance value of each of the rotary member and the abutting member is no more than 1.0×104 Ω, but i) when the rotary member is stopped and the developer is sandwiched between the the rotary member and the abutting member, a measured first resistance value is 1.0×105-1.0×108 Ω, and ii) when the rotary member is rotated at 200 mm/s relative to the abutting member and the developer is sandwiched between the rotary member and the abutting member, a measured second resistance value is in the range of the first resistance value and is at least 40% of the first resistance value. Selon la présente invention, la résistivité transversale d'un élément de contact qui entre en contact avec la surface d'un support de révélateur n'est pas supérieure à 1014 Ω⋅cm, et un révélateur satisfait les conditions suivantes. À l'extérieur d'un dispositif de formation d'image, lorsqu'une différence de potentiel a été générée entre la surface d'un élément rotatif pouvant tourner et d'un élément de butée qui vient en butée contre la surface de l'élément rotatif, la valeur de la résistance de chaque élément parmi l'élément rotatif et l'élément de butée n'est pas supérieure à 1,0 × 104 Ω, mais i) lorsque l'élément rotatif est arrêté et que le révélateur est pris en sandwich entre l'élément rotatif et l'élément de butée, une première valeur de résistance mesurée est égale à 1,0 × 105 - 1,0 × 108 Ω, et ii) lorsque l'élément rotatif est amené à tourner à 200 mm/s par rapport à l'élément de butée et que le révélateur est pris en sandwich entre l'élément rotatif et l'élément de butée, une seconde valeur de résistance mesurée se situe dans la plage de la première valeur de résistance et est au moins égale à 40 % de la première valeur de résistance. 現像剤担持体の表面に接触する接触部材の体積抵抗率が１０１４Ω・ｃｍ以下であり、現像剤は、以下の条件を満たす。画像形成装置の外部において、回転可能な回転部材の表面と回転部材の表面に当接する当接部材との間に電位差が形成される状態において、回転部材と当接部材と、の抵抗値がそれぞれ１．０×１０４Ω以下であって、ｉ）回転部材が停止している状態、かつ、回転部材と当接部材との間に現像剤を挟んだ状態において、測定した第１の抵抗値が１．０×１０５Ω～１．０×１０８Ωである、ｉｉ）回転部材を当接部材に対して２００ｍｍ／ｓで回転させた状態で、かつ、回転部材と当接部材との間に現像剤を挟んだ状態において、測定した第２の抵抗値が第１の抵抗値の範囲内、かつ、第２の抵抗値が第１の抵抗値に比べて４０％以上となる。