PLANAR TRANSPARENT CONDUCTIVE ELECTRODE AND A METHOD OF PRODUCTION THEREOF

A transparent conductive electrode (100) for optoelectronic applications has a substrate layer (102), a transparent conducting layer (104) comprising a transparent electrically conductive material and a patterned conducting structure (106) constructed from a metal or semi-metal material having an electrical conductivity at least one order of magnitude greater than the transparent conducting material. The conducting structure is at least partially embedded in at least one of the substrate layer and the transparent conducting layer such that the in-plane electrical resistance properties of the transparent conductive electrode is decoupled from its out-of-plane resistance properties. Une électrode conductrice transparente (100) pour des applications optoélectroniques comprend une couche de substrat (102), une couche conductrice transparente (104) comprenant un matériau électroconducteur transparent et une structure conductrice à motifs (106) construite à partir d'un matériau métallique ou semi-métallique ayant une conductivité électrique au moins un ordre de grandeur supérieur au matériau conducteur transparent. La structure conductrice est au moins partiellement incorporée dans la couche de substrat et/ou la couche conductrice transparente de telle sorte que les propriétés de résistance électrique dans le plan de l'électrode conductrice transparente sont découplées de ses propriétés de résistance hors plan.