METHOD FOR DETECTING AT LEAST ONE DEFECT ON A SUPPORT, DEVICE AND COMPUTER PROGRAM ASSOCIATED

Method for detecting at least one defect on a support such as a fabric or a brick, the method comprising: ▪ Acquiring (ACQ) at least one first image of the support; ▪ Generating a second image that corresponds to the 2D spectrum space of the at least one first image; ▪ Shifting at least one selected frequency range from at least a first area of the 2D spectrum space toward a second area of the 2D spectrum space; ▪ Filtering at least one frequency range of the 2D spectrum space to remove at least one predefined pattern of the support; ▪ Shifting at least a selected frequency range from a second area of the new 2D spectrum space toward a first area of the new 2D spectrum space; ▪ Reversing (RVRS) the transformation of the frequency domain of the new 2D spectrum space to obtain a final image. L'invention concerne un procédé de détection d'au moins un défaut sur un support tel qu'un tissu ou une brique, le procédé consistant à : ▪ acquérir (ACQ) au moins une première image du support ; ▪ générer une seconde image qui correspond à l'espace de spectre 2D de la ou des premières images ; ▪ décaler au moins une plage de fréquences sélectionnée d'au moins une première zone de l'espace de spectre 2D vers une seconde zone de l'espace de spectre 2D ; ▪ filtrer au moins une plage de fréquences de l'espace de spectre 2D pour éliminer au moins un motif prédéfini du support ; ▪ décaler au moins une plage de fréquences sélectionnée d'une seconde zone du nouvel espace de spectre 2D vers une première zone du nouvel espace de spectre 2D ; ▪ inverser (RVRS) la transformation du domaine de fréquence du nouvel espace de spectre 2D pour obtenir une image finale.