METHODS AND SYSTEMS FOR SUBSTRATE FUNCTIONALIZATION

Provided herein are systems and methods for functionalizing a substrate. The method may comprise providing a substrate surface, wherein the substrate surface comprises a plurality of individually addressable locations, and exposing the substrate surface to a dose of organosilane vapor to generate a plurality of organosilane-functionalized locations on the substrate surface, wherein the plurality of organosilane-functionalized locations corresponds to at least a subset of the plurality of individually addressable locations. The dose of organosilane vapor may be provided at relatively low dose, in an example, at most about 1x 1024 molecules per m2. L'invention concerne des systèmes et des procédés de fonctionnalisation d'un substrat. Le procédé peut comprendre la fourniture d'une surface de substrat, la surface de substrat comprenant une pluralité d'emplacements adressables individuellement, ainsi que l'exposition de la surface du substrat à une dose de vapeur d'organosilane pour générer une pluralité d'emplacements fonctionnalisés par organosilane sur la surface du substrat, la pluralité d'emplacements fonctionnalisés par organosilane correspondant à au moins un sous-ensemble de la pluralité d'emplacements adressables individuellement. La dose de vapeur d'organosilane peut être fournie à une dose relativement faible, dans un exemple, au maximum environ 1x 1024 molécules par m2.