SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUS FOR CORRECTING THERMAL PROCESSING OF SUBSTRATES

Aspects of the present disclosure relation to systems, methods, and apparatus for correcting thermal processing of substrates. In one aspect, a corrective absorption factor curve having a plurality of corrective absorption factors is generated. Des aspects de la présente divulgation concernent des s...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ADERHOLD, Wolfgang R, WANG, Yi, MAYUR, Abhilash J
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Aspects of the present disclosure relation to systems, methods, and apparatus for correcting thermal processing of substrates. In one aspect, a corrective absorption factor curve having a plurality of corrective absorption factors is generated. Des aspects de la présente divulgation concernent des systèmes, des procédés et un appareil de correction de un traitement thermique de substrats. Selon un aspect, une courbe de facteur d'absorption correctif ayant une pluralité de facteurs d'absorption correctifs est générée.