HOST GROUP-CONTAINING POLYMERIZABLE MONOMER, POLYMER MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
The present invention provides a host group-containing polymerizable monomer that can be used as a raw material for manufacturing a polymer material having excellent toughness and strength, a method for manufacturing the host group-containing polymerizable monomer, a polymer material manufactured us...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | The present invention provides a host group-containing polymerizable monomer that can be used as a raw material for manufacturing a polymer material having excellent toughness and strength, a method for manufacturing the host group-containing polymerizable monomer, a polymer material manufactured using the host group-containing polymerizable monomer, and a method for manufacturing the polymer material. The present invention provides a host group-containing polymerizable monomer, the host group-containing polymerizable monomer having a sulfide group, the host group being a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom or hydroxyl group from a cyclodextrin derivative, the cyclodextrin derivative having a structure in which the hydrogen atom of at least one hydroxyl group of cyclodextrin is substituted with at least one group selected from the group consisting of hydrocarbon groups, acyl groups, and -CONHR (where R is a methyl group or an ethyl group).
La présente invention concerne un monomère polymérisable contenant un groupe hôte qui peut être utilisé comme matière première pour la fabrication d'un matériau polymère présentant une excellente ténacité et une excellente résistance, un procédé de fabrication du monomère polymérisable contenant un groupe hôte, un matériau polymère fabriqué à l'aide du monomère polymérisable contenant un groupe hôte, et un procédé de fabrication du matériau polymère. La présente invention concerne un monomère polymérisable contenant un groupe hôte, le monomère polymérisable contenant un groupe hôte comprenant un groupe sulfure, le groupe hôte étant un groupe monovalent obtenu par élimination d'un atome d'hydrogène ou d'un groupe hydroxyle d'un dérivé de cyclodextrine, le dérivé de cyclodextrine ayant une structure dans laquelle l'atome d'hydrogène d'au moins un groupe hydroxyle de cyclodextrine est substitué par au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par des groupes hydrocarbonés, des groupes acyle et -CONHR (dans lequel R représente un groupe méthyle ou un groupe éthyle).
本発明は、靭性及び強度に優れる高分子材料を製造するための原料として使用できるホスト基含有重合性単量体及びその製造方法、並びに該ホスト基含有重合性単量体を使用して製造される高分子材料及びその製造方法を提供する。 本発明は、ホスト基含有重合性単量体であって、 前記ホスト基含有重合性単量体は、スルフィド基を有し、 前記ホスト基は、シクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された1価の基であり、 前記シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリンが有する少なくとも1個の水酸基の水素原子が炭化水素基、アシル基及び-CONHR(Rはメチル基又はエチル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種の基で置換された構造を有する、ホスト基含有重合性単量体を提供する。 |
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