PROCESS MODULE CHAMBER PROVIDING SYMMETRIC RF RETURN PATH

An apparatus including a multi-station processing chamber with a top plate and a bottom portion encloses stations each including a pedestal assembly. A spindle centrally located between the stations is configured to rotate about a central axis, and is electrically connected to the bottom portion. An actuator controls movement of the spindle in the Z-direction. An indexer connected to the spindle rotates with the spindle, and includes extensions each configured to interface with a corresponding substrate for substrate transfer. An electrically conductive interface movably connected to the top plate provides an RF return path. Another actuator coupled to the grounding interface controls movement of the electrically conductive interface in the Z-direction. The electrically conductive interface moves downwards in the Z- direction to make contact with the indexer when each of the plurality of extensions is parked and the spindle is moved to a lower position during plasma processing. L'invention concerne un appareil incluant une chambre de traitement multistation pourvue d'une plaque supérieure et d'une partie inférieure qui enferme des stations incluant chacune un ensemble de piliers. Un arbre situé de manière centrale entre les stations est configuré pour tourner autour d'un axe central, et est connecté électriquement à la partie inférieure. Un actionneur contrôle le déplacement de l'arbre dans la direction Z. Un indexeur connecté à l'arbre tourne avec l'arbre, et inclut des extensions configurées chacune pour s'interfacer avec un substrat correspondant pour le transfert de substrat. Une interface électriquement conductrice connectée de manière à pouvoir se déplacer à la plaque supérieure assure un chemin de retour à RF. Un autre actionneur couplé à l'interface de connexion à la masse contrôle le déplacement de l'interface électriquement conductrice dans la direction Z. L'interface électriquement conductrice se déplace vers le bas dans la direction Z pour entrer en contact avec l'indexeur lorsque chaque extension de la pluralité d'extensions est parquée et que l'arbre est déplacé vers une position inférieure durant le traitement par plasma.