WET CLEAN SPRAY PROCESS CHAMBER FOR SUBSTRATES

Embodiments of wet clean chambers are provided herein. In some embodiments, a wet clean chamber includes: a deck plate; a substrate support that is rotatable and configured to support a substrate; a rotor disposed about and configured to rotate with the substrate support, wherein the rotor includes an upper fluid collection region disposed radially outward of the substrate support in position to collect fluid leaving the substrate support during processing, and wherein the upper fluid collection region includes a plurality of drain openings along a radially outward perimeter of a bottom of the upper fluid collection region; a stationary housing surrounding the rotor and having a lower fluid collection region disposed beneath the drain openings of the rotor; and one or more fluid delivery arms coupled to the deck plate and configured to deliver fluid to the substrate. L'invention concerne des modes de réalisation de chambres propres humides. Dans certains modes de réalisation, une chambre propre humide comprend : une plaque de pont ; un support de substrat qui est rotatif et configuré pour supporter un substrat ; un rotor disposé autour et configuré pour tourner avec le support de substrat, le rotor comprenant une région de collecte de fluide supérieure disposée radialement vers l'extérieur du support de substrat en position pour collecter le fluide sortant du support de substrat pendant le traitement, et la région de collecte de fluide supérieure comprenant une pluralité d'ouvertures de drainage le long d'un périmètre radialement vers l'extérieur d'un fond de la région de collecte de fluide supérieure ; un logement fixe entourant le rotor et ayant une région de collecte de fluide inférieure disposée en dessous des ouvertures de vidange du rotor ; et un ou plusieurs bras de distribution de fluide couplés à la plaque de pont et configurés pour distribuer un fluide au substrat.