GRAPHENE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND USE APPLICATION OF SAME
The present invention provides a method that is for producing graphene having excellent physical properties such as electrical characteristics and that does not use a reducing agent in the production process. The method for producing a graphene material according to the present invention comprises:...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | The present invention provides a method that is for producing graphene having excellent physical properties such as electrical characteristics and that does not use a reducing agent in the production process. The method for producing a graphene material according to the present invention comprises: a step for preparing graphene oxide; a step for heating the graphene oxide at 300-700°C; a step for dispersing the heated graphene oxide in a dispersion medium to produce a thermally-reduced graphene oxide dispersion liquid; and a step for performing a hydrothermal treatment on the thermally-reduced graphene oxide dispersion liquid at 150-250°C.
La présente invention concerne un procédé de production de graphène présentant d'excellentes propriétés physiques telles que des caractéristiques électriques et qui n'utilise pas d'agent réducteur lors du processus de production. Le procédé de production d'un matériau de graphène selon la présente invention comprend : une étape de préparation d'oxyde de graphène ; une étape consistant à chauffer l'oxyde de graphène entre 300 et 700 °C ; une étape de dispersion de l'oxyde de graphène chauffé dans un milieu de dispersion pour produire un liquide de dispersion d'oxyde de graphène réduit thermiquement ; et une étape consistant à effectuer un traitement hydrothermique sur le liquide de dispersion d'oxyde de graphène réduit thermiquement entre 150 et 250° C.
本発明は、製造工程において還元剤を使用しない、電気的特性などの物性に優れたグラフェンを製造する方法を提供する。本発明のグラフェン材料の製造方法は、グラフェン酸化物を準備するステップと、前記グラフェン酸化物を300℃~700℃で熱処理するステップと、前記熱処理されたグラフェン酸化物を分散媒に分散し熱還元グラフェン酸化物分散液を調製するステップと、前記熱還元グラフェン酸化物分散液を150℃~250℃で水熱処理するステップとを包含する。 |
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