APPARATUS AND METHOD FOR PREPARING AND CLEANING A COMPONENT

An apparatus for cleaning a component for use in a lithographic apparatus, the apparatus comprising at least one cleaning module or a plurality of cleaning modules, wherein the at least one cleaning module or the plurality of cleaning modules comprise a plurality of cleaning mechanisms, and wherein...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	NIKIPELOV, Andrey, YAKUNIN, Andrei, SALMASO, Guido, VAN DE KERKHOF, Marcus, DEHNER, Imre, SMULDERS, Edwin, VOORDECKERS, Luc, HEIJMANS, Lucas, OTTENS, Cornelis, COENEN, Martinus, LAFARRE, Raymond, VANOTTERDIJK, Dennis, ANDE, Chaitanya Krishna
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	An apparatus for cleaning a component for use in a lithographic apparatus, the apparatus comprising at least one cleaning module or a plurality of cleaning modules, wherein the at least one cleaning module or the plurality of cleaning modules comprise a plurality of cleaning mechanisms, and wherein the plurality of cleaning mechanisms comprise: at least one preparing mechanism for reducing adhesion of the particles to the component and at least one removing mechanism for removing particles from the component, or a plurality of removing mechanisms for removing particles from the component. L'invention concerne un appareil de nettoyage d'un composant destiné à être utilisé dans un appareil lithographique, l'appareil comprenant au moins un module de nettoyage ou une pluralité de modules de nettoyage, ledit au moins un module de nettoyage ou la pluralité de modules de nettoyage comprenant une pluralité de mécanismes de nettoyage, et la pluralité de mécanismes de nettoyage contenant : au moins un mécanisme de préparation pour réduire l'adhérence des particules au composant et au moins un mécanisme d'élimination pour éliminer les particules du composant, ou une pluralité de mécanismes d'élimination pour éliminer les particules du composant.