SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

According to the present invention, a coating/developing device is provided with: a removing liquid nozzle that discharges a removing liquid to the periphery of a substrate; a flow passage that is a processing liquid supply passage for allowing the removing liquid to flow between a supply source of the removing liquid and the removing liquid nozzle; an image capturing unit of an inspection unit, the image capturing unit capturing an image of the periphery of the substrate; various sensors, serving as an observation unit, that are provided in the flow passage and that observe the flowing state of the removing liquid in the flow passage; and an analysis unit that identifies an abnormal factor related to the supply of the removing liquid to a substrate W on the basis of the image captured by the image capturing unit of the inspection unit and the result of observation by the various sensors. Selon la présente invention, un dispositif de revêtement/développement est pourvu : d'une buse de liquide d'élimination qui évacue un liquide d'élimination vers la périphérie d'un substrat ; d'un passage d'écoulement qui est un passage d'alimentation en liquide de traitement permettant au liquide d'élimination de s'écouler entre une source d'alimentation du liquide d'élimination et la buse de liquide d'élimination ; d'une unité de capture d'image d'une unité d'inspection, l'unité de capture d'image capturant une image de la périphérie du substrat ; de divers capteurs, servant d'unité d'observation, qui sont disposés dans le passage d'écoulement et qui observent l'état d'écoulement du liquide d'élimination dans le passage d'écoulement ; et d'une unité d'analyse qui identifie un facteur anormal lié à l'alimentation du liquide d'élimination à un substrat (W) sur la base de l'image capturée par l'unité de capture d'image de l'unité d'inspection et du résultat d'observation par les divers capteurs. 塗布・現像装置は、基板の周縁部に対して除去液を吐出する除去液ノズルと、除去液の供給源と除去液ノズルとの間で除去液を通流させる処理液供給路である流路と、基板の周縁部を撮像する検査ユニットの撮像部と、流路に設けられ、流路における除去液の通流状態を観測する観測部としての各種センサーと、検査ユニットの撮像部による撮像画像と各種センサーによる観測結果とに基づき、基板Ｗに対する除去液の供給に係る異常要因を特定する分析部と、を備える。