DOOR MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE CLEANING METHOD

This door mechanism is provided to a substrate loading/unloading port formed in a chamber of a substrate processing device, the door mechanism having: a valve body that opens/closes the loading/unloading port; a shaft extending horizontally and to which the valve body is attached; and a drive unit t...

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1. Verfasser: SAKAI, Toshimitsu
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:This door mechanism is provided to a substrate loading/unloading port formed in a chamber of a substrate processing device, the door mechanism having: a valve body that opens/closes the loading/unloading port; a shaft extending horizontally and to which the valve body is attached; and a drive unit that is arranged laterally in the horizontal direction of the valve body and rotates the shaft. The substrate processing device includes: a plurality of chambers that are stacked vertically and that have formed on a side surface thereof a substrate loading/unloading port; and a plurality of door mechanisms provided to the substrate loading/unloading port formed in the chambers. The door mechanisms include: a valve body that opens/closes the loading/unloading port; a shaft that extends horizontally and to which the valve body is attached; and a drive unit that is arranged laterally in the horizontal direction of the valve body and rotates the shaft. L'invention concerne un mécanisme de porte qui est disposé sur un orifice de chargement/déchargement de substrat formé dans une chambre d'un dispositif de traitement de substrat, le mécanisme de porte ayant : un corps de soupape qui ouvre/ferme l'orifice de chargement/déchargement ; un arbre s'étendant horizontalement et auquel le corps de soupape est fixé ; et une unité d'entraînement qui est disposée latéralement dans la direction horizontale du corps de soupape et fait tourner l'arbre. Le dispositif de traitement de substrat comprend : une pluralité de chambres qui sont empilées verticalement et qui ont formées sur une surface latérale de celui-ci, un orifice de chargement/déchargement de substrat ; et une pluralité de mécanismes de porte disposés sur l'orifice de chargement/déchargement de substrat formé dans les chambres. Les mécanismes de porte comprennent : un corps de soupape qui ouvre/ferme l'orifice de chargement/déchargement ; un arbre qui s'étend horizontalement et auquel le corps de soupape est fixé ; et une unité d'entraînement qui est disposée latéralement dans la direction horizontale du corps de soupape et fait tourner l'arbre. 基板処理装置のチャンバに形成された基板の搬入出口に設けられるドア機構であって、前記搬入出口を開閉する弁体と、水平方向に延伸し、前記弁体が取り付けられるシャフトと、前記弁体の水平方向側方に配置され、前記シャフトを回動させる駆動部と、を有する。基板処理装置であって、鉛直方向に積層され、側面に基板の搬入出口が形成された複数のチャンバと、前記チャンバに形成された基板の搬入出口に設けれる複数のドア機構と、を有し、前記ドア機構は、前記搬入出口を開閉する弁体と、水平方向に延伸し、前記弁体が取り付けられるシャフトと、前記弁体の水平方向側方に配置され、前記シャフトを回動させる駆動部と、を有する。