A PROCESS TO CONTINUOUSLY TREAT A HYDROGEN SULPHIDE COMPRISING GAS AND SULPHUR RECLAIMING FACILITIES

The invention is directed to a process to continuously treat a hydrogen sulphide comprising gas, said process comprising the following steps: (a) contacting the hydrogen sulphide comprising gas with an aqueous alkaline liquid comprising sulphide-oxidising bacteria and elemental sulphur particles thereby producing a loaded aqueous liquid comprising dissolved sulphide, polysulphide compounds, sulphide-oxidising bacteria and elemental sulphur particles and a gas having a lower content of hydrogen sulphide, and passing the loaded aqueous liquid through a polysulphide reactor zone comprising one or more plug flow reactor zones, (b) contacting the loaded aqueous liquid with an oxidant to enable the sulphide- oxidising bacteria to oxidise sulphide to elemental sulphur, thereby producing an enriched aqueous liquid comprising an increased amount of elemental sulphur particles and (c) separating elemental sulphur particles from the enriched aqueous liquid, wherein the residence time of the loaded aqueous liquid between its preparation in step (a) and its supply to step (b) is between 3 and 45 minutes, and wherein the content of elemental sulphur as part of the polysulphide compounds in the loaded aqueous liquid [s° in Sx2"j as supplied to step (b) is above 0.7 mM. L'invention concerne un processus pour traiter en continu un sulfure d'hydrogène comprenant du gaz, ledit processus comprenant les étapes suivantes : (a) mettre en contact le sulfure d'hydrogène comprenant du gaz avec un liquide alcalin aqueux comprenant des bactéries oxydant le sulfure et des particules de soufre élémentaire, ce qui permet de produire un liquide aqueux chargé comprenant du sulfure dissous, polysulfure, des bactéries oxydant le sulfure et des particules de soufre élémentaire et un gaz ayant une teneur inférieure en sulfure d'hydrogène, et faire passer le liquide aqueux chargé à travers une zone de réacteur à polysulfure comprenant une ou plusieurs zones de réacteur à écoulement par bouchon, (b) mettre en contact le liquide aqueux chargé avec un oxydant pour permettre aux bactéries oxydant le sulfure d'oxyder le sulfure en soufre élémentaire, ce qui permet de produire un liquide aqueux enrichi comprenant une quantité accrue de particules de soufre élémentaire et (c) séparer les particules de soufre élémentaire du liquide aqueux enrichi, le temps de séjour du liquide aqueux chargé entre sa préparation à l'étape (a) et son alimentation à l'étape (b) étant compris entre 3 et 45 minutes, et la