PLASMA TREATMENT DEVICE

Provided is a plasma treatment device which is highly safe and with which running costs can be suppressed. A plasma treatment device comprises: a vacuum container; a treatment chamber that is disposed inside the vacuum container; and a gas supply unit provided with a treatment gas line that supplies a treatment gas into the treatment chamber so as to form plasma in the treatment chamber. The treatment unit includes: a plurality of pipes through which a plurality of types of gases are allowed to flow, respectively; and a box that encloses the pipes. Air that has been temperature-adjusted to a prescribed range is supplied to the box. L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma qui est très sûr et avec lequel des coûts de fonctionnement peuvent être supprimés. Un dispositif de traitement au plasma comprend : un contenant sous vide ; une chambre de traitement qui est disposée dans le contenant sous vide ; et une unité d'alimentation en gaz pourvue d'une conduite de gaz de traitement qui achemine un gaz de traitement dans la chambre de traitement de manière à former un plasma dans la chambre de traitement. L'unité de traitement comprend : une pluralité de tuyaux dans lesquels une pluralité de types de gaz peuvent s'écouler, respectivement ; et une enceinte qui enferme les tuyaux. De l'air qui a été ajusté en température à une plage prescrite est amené dans l'enceinte. ランニングコストを抑制しつつ、安全性の高いプラズマ処理装置を提供する。真空容器と、前記真空容器の内部に配置される処理室と、前記処理室内にプラズマを形成するために前記処理室内に処理用ガスを供給する処理用ガスラインを備えたガス供給ユニットとを有するプラズマ処理装置において、前記処理ユニットは、複数種類のガスを各々種類毎に通流させる複数の配管と、前記配管を囲う箱体とを有し、前記箱体には、所定の範囲に温度調節された空気が供給される。