STACK VOLTAGE BASED CLOSED-LOOP FEEDBACK CONTROL OF ELECTROCHROMIC GLASS

When transitioning an electrochromic (EC) device between two tint levels, a control unit may repeatedly adjust an applied voltage based on a stack voltage of the EC device. The stack voltage of the EC device may be measured and compared to a reference or target stack voltage. The stack voltage may b...

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Hauptverfasser: WANG, Yigang, DI, Bolei, JOVELET-LAPLACE, Louis
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:When transitioning an electrochromic (EC) device between two tint levels, a control unit may repeatedly adjust an applied voltage based on a stack voltage of the EC device. The stack voltage of the EC device may be measured and compared to a reference or target stack voltage. The stack voltage may be measured in any of various methods, such as by measuring it directly, via a measured equivalent series resistance, or via an open circuit voltage measurement. The applied voltage may then be changed or adjusted based on the measured stack voltage and the comparison of the stack voltage to the reference value. This process may be repeated multiple times and may essentially be performed continually until the stack voltage attains the desired level or at least attains a level within a predetermine threshold of the desired level. Lors de la transition d'un dispositif électrochromique (EC) entre deux niveaux de teinte, une unité de commande peut ajuster de manière répétée une tension appliquée sur la base d'une tension d'empilement du dispositif EC. La tension d'empilement du dispositif EC peut être mesurée et comparée à une tension d'empilement de référence ou cible. La tension d'empilement peut être mesurée dans n'importe lequel de divers procédés, par exemple en la mesurant directement, par l'intermédiaire d'une résistance série équivalente mesurée, ou par l'intermédiaire d'une mesure de tension de circuit ouvert. La tension appliquée peut ensuite être modifiée ou ajustée sur la base de la tension d'empilement mesurée et de la comparaison de la tension d'empilement à la valeur de référence. Ce processus peut être répété plusieurs fois et peut être réalisé essentiellement en continu jusqu'à ce que la tension d'empilement atteigne le niveau souhaité ou atteint au moins un niveau à l'intérieur d'un seuil prédéterminé du niveau souhaité.