SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

A substrate processing apparatus comprising: a stage 30 on which a substrate 2 with a plurality of elements 4a, 4b, 4c disposed thereon is installed; an upper member 21 covering the top of the stage 30 and forming a processing chamber 6 providing a pressurization space between the upper member 21 and the stage 30; and a sheet holding unit 40 for holding an elastic sheet 80 between the stage 30 and the upper member 21. The stage 30 has a first suction hole 31 formed to span between the inside and outside of an outer edge portion 34a of a substrate installed region 34, and a second suction hole 32 formed on the inside of the substrate installed region 34. The sheet holding unit 40 places the elastic sheet 80 over the stage 30 so as to cover the substrate 2. L'invention concerne un appareil de traitement de substrat comprenant : un étage 30 sur lequel est placé un substrat 2 sur lequel se trouve une pluralité d'éléments 4a, 4b, 4c ; un élément supérieur 21 qui recouvre le sommet de l'étage 30 et forme une chambre de traitement 6 fournissant un espace de mise sous pression entre l'élément supérieur 21 et l'étage 30 ; et une unité de maintien de feuille 40 pour maintenir une feuille élastique 80 entre l'étage 30 et l'élément supérieur 21. L'étage 30 comprend un premier trou d'aspiration 31 formé pour s'étendre entre l'intérieur et l'extérieur d'une partie de bord extérieur 34a d'une région montée sur substrat 34, et un second trou d'aspiration 32 formé sur l'intérieur de la région montée sur substrat 34. L'unité de maintien de feuille 40 place la feuille élastique 80 sur l'étage 30 de façon à recouvrir le substrat 2. 【解決手段】複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃが配置された基板２が設置されるステージ３０と、ステージ３０の上方を覆い、ステージ３０との間に加圧空間である処理室６を形成する上部部材２１と、ステージ３０と上部部材２１との間に弾性シート８０を保持するシート保持部４０と、を有する。ステージ３０は、基板設置領域３４の外縁部３４ａの内外に跨るように形成された第１吸引孔３１と、基板設置領域３４の内側に形成された第２吸引孔３２とを有し、シート保持部４０は、基板２が覆われるように、弾性シート８０をステージ３０に配置する。