MICROPROCESSING TREATMENT AGENT AND MICROPROCESSING TREATMENT METHOD

Provided are a microprocessing treatment agent and a microprocessing treatment method, which enable an object to be processed having at least a silicon-containing insulating film to be favorably microprocessed while suppressing fine particles from remaining. The microprocessing treatment agent according to the present invention is for microprocessing an object to be processed having at least a silicon-containing insulating film, and contains a compound represented by formula (1), hydrogen fluoride, ammonium fluoride, and water. M+ +(Rf-SO2)-N--(SO2-Rf) (1) (In the formula, Rf represents a perfluoroalkyl group having 1-4 carbon atoms, and M- represents a hydrogen ion or an ammonium ion). The content of the compound is 0.001-0.5 mass% with respect to the total mass of the microprocessing treatment agent, the content of the hydrogen fluoride is 0.05-25 mass% with respect to the total mass of the microprocessing treatment agent, the content of the ammonium fluoride is 0.5-40 mass% with respect to the total mass of the microprocessing treatment agent, and the content of the hydrogen fluoride and the content of the ammonium fluoride satisfy the relational expression (1) below. Y≦-0.8X＋40 (1) (where, X represents the concentration of hydrogen fluoride (mass%), and Y represents the concentration of ammonium fluoride (mass%)). L'invention fournit un agent de traitement de microfabrication et un procédé de traitement de microfabrication qui permettent une microfabrication satisfaisante tout en inhibant la rétention de microparticules, sur un objet à traiter possédant au moins un film isolant à teneur en silicium. L'agent de traitement de microfabrication de l'invention est destiné à la microfabrication d'un objet à traiter possédant au moins un film isolant à teneur en silicium, et contient un composé représenté par la formule chimique (1), un fluorure d'hydrogène, un fluorure d'ammonium et une eau. Ｍ＋ ＋（Ｒｆ－ＳＯ２） － Ｎ－－（ＳＯ２－Ｒｆ）（１） (Dans la formule, Rf représente un groupe perfluoroalkyle de 1 à 4 atomes de carbone, et Ｍ－ représente un ion hydrogène ou un ion ammonium.). La teneur en composé représenté par la formule chimique (1) est supérieure ou égale à ０,００１% en masse et inférieure ou égale à ０,５% en masse pour la masse totale dudit agent de traitement de microfabrication, la teneur en fluorure d'hydrogène est supérieure ou égale à ０,０５% en masse et inférieure ou égale à 25% en masse pour la masse totale dudit agent de traitement de microfabrication, la teneur en fl